不必再等EUV光刻机！中芯国际全新工艺诞生
不必再等EUV光刻机！中芯国际全新工艺诞生 ， 有信心冲刺7nm！
小小天看世界快传号 | 1天前关注不必再等EUV光刻机！中芯国际全新工艺诞生 ， 有信心冲刺7nm！提起芯片制造企业 ， 我们第一个想到的会是台积电 ， 紧随其后的便是中芯国际 。 的确 ， 中芯国际还是一个很年轻的企业 ， 成立时间甚至不超过二十年 ， 但中芯国际取得的成就我们也是有目共睹的 ， 近年来 ， 中芯国际在芯片的制程工艺上不断取得进步 ， 一路高歌猛进 ， 甚至挤入了全球芯片代工行业的前三甲 ， 这是十分值得我们骄傲的事情 。 
无疑 ， 中芯国际的成功给中国半导体行业带来了很大的希望 ， 因为在此前 ， 中国半导体行业发展完全依靠政府大量的资金投入 ， 而中芯国际这家企业却很好的采用“市场化运作”闯出了一片天 。 从28nm到14nm ， 再到现在的7nm工艺 ， 如果不是荷兰ASML公司未能及时交付EUV光刻机 ， 可能中芯国际现在已经取得了更大的成就 。 就在前不久 ， 中芯国际CEO梁孟松带来了一个好消息 ， 那就是中芯国际不用再等EUV光刻机了 ， 因为现在中芯国际完全用能力凭借自己突破7nm工艺的障碍 。 并且梁孟松还表示 ， 中芯国际在2020年很可能会跳过10nm工艺 ， 直接冲击7nm大关 。 值得一提的是 ， 目前中芯国际已经成熟地掌握了14nm工艺 ， 并且14nm芯片也已投入大规模生产 。 另外 ， 中芯国际还宣布了一个好消息 ， 那就是中芯国际自主研发的N+1和N+2工艺将取代EUV光刻机完成7nm工艺 ， 在这种工艺下生产出来的芯片 ， 其性能提升了20% ， 功耗更是减半 ， 此外 ， 芯片的逻辑面积和SoC面积均有大幅下降 ， 这完全符合业内7nm制程工艺的标准 。 目前 ， N+1工艺和N+2芯片还处于研发阶段 ， 中芯国际正计划对N+1工艺芯片进行试产 ， 这意味着中芯国际将成为世界上第三个掌握7nm工艺的芯片代工企业 。 梁孟松还透露 ， 在N+1工艺成熟后 ， 中芯国际还将对N+2工艺进行进一步探索 ， 该种工艺下的芯片性能将得到进一步提升 。 此外 ， 在中低端芯片上中芯国际也没有放下 ， 目前第一代FinFET工艺也就是14nm工艺已经成功实现量产 ， 中芯国际下一步的计划是推进第二代FinFET工艺（12nm工艺）的研发进程 。 在取得诸多成就之后 ， 中芯国际很好地向国际证明了一个问题 ， 那就是即便没有ASML公司提供的光刻机 ， “中国芯”一样能够破茧而出 ， 耀眼世界 。
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