国产光刻机的艰辛突围路:07年出样机,被国外卡脖子9年才量产

光刻机是什么东西?
如果是两年前问这个问题 , 估计没几个人会知道 。
但是因为这一年多来 , 美国持续对华为 , 中芯国际等中国高科技企业打压 , 很多人明白了光刻机是造芯片的关键核心设备 。
华为是因为芯片被卡脖子 , 而国内的芯片厂又因为光刻机被卡脖子 。
芯片厂龙头中芯国际在2018年向光刻机龙头ASML订了一台最先进的euv光刻机 , 在美国施压下 , 这台设备何时到货已经变得遥遥无期 。
国产光刻机的艰辛突围路:07年出样机,被国外卡脖子9年才量产文章插图
国内不是不能做光刻机 , 只是与ASML差距实在太大 。
国内最大的光刻机设备商是上海微电子 , 现在量产了的是90nm的光刻机 , 而ASML的EUV光刻机已经能够制造3nm制程的芯片 。
这中间隔了90纳米、65纳米、45纳米、32纳米、22纳米、14纳米、10纳米 , 7纳米 , 5纳米等9个芯片工艺世代 。
因此有人说 , 上海微电子与ASML的差距差了近20年 , 这个估计并不保守 , 因为差距确实就是有这么大 。
是国产厂商不争气吗?
完全不是 , 看完之后 , 你不但不会觉得它不争气 , 反而会为它感到骄傲 。
早在2007年的时候 , 上海微电子就已经造出了90nm的光刻机样机 , 但是足足用了9年才将其量产 。
为什么用了这么久才量产呢?

  • 02年才成立的上海微电子仅仅用了5年 , 就研发出90nm光刻机样机 。
“给你们中国人光刻机图纸 , 你们中国人也造不出光刻机 。 ”
这句话就是在当时的ASML在听到中国人也成立了光刻机设备厂时说出来的 , 自大与狂妄溢于言表 。
2002年 , 上海微电子(简称SMEE)成立 , 由贺荣明担任总经理 。
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那时ASML已经成立了将近20年 , 而日本的尼康和佳能更是早在上世纪六七十年代就成立了 。
而那时的光刻机行业格局已经基本定型 , ASML垄断了高端市场 , 而中低端市场则由ASML , 尼康和佳能三家平分 。
我国虽然在七十年代也研发过光刻机 , 一度将与发达国家的技术差距缩小到个位数以内 。
但是随着90年代以联想为代表的企业提出“贸工技”的理念以来 , 造不如买的观念大行其道 , 处于起步阶段国内光刻机研发体系被国外设备厂商冲得七零八落 , 出现了断代 。
刚成立的上海微电子几乎是一穷二白 , 没有人才团队 , 没有技术积累 , 也没有配套的供应链 。
这种情况下要重新起步的艰难可想而知 。
更加关键的是 , 由于欧美日各国一向都将半导体行业看作战略产业 , 对相关技术的出口进行了严格限制 。
但就在这种情况下 , 贺荣明面临的困难与压力可想而知 。
但是在5年后的2007年 , 贺荣明带领上海微电子突破重重困难 , 生产出了我国首台90nm投影光刻机 。
13年前 , 90nm光刻机还属于高端机 , 那时的ASML还刚开始生产38nm的光刻机 , 我国与ASML的差距只有1个世代 。
上海微电子也成为了继ASML , 尼康 , 佳能之后 , 世界第四家掌握了高端投影光刻机的厂商 。
  • 欧美日等发达国家的技术围堵使90nm光刻机样机成了摆设 。
【国产光刻机的艰辛突围路:07年出样机,被国外卡脖子9年才量产】光刻机是相当复杂的设备 , 目前最先进的光刻机集成了10多万个零部件 , 可以装满40个集装箱 。
而这其中有大量关键零部件都是国外制造的:比如美国的光源 , 德国的镜头等等 。
虽然彼时的ASML已经开始生产38nm的光刻机 , 在得知我国研发出90nm的光刻机之后 , 这些欧美日厂家联合起来 , 对上海微电子进行了技术围堵 。
这些关键的零部件都断供了 。
没有零部件 , 上海微电子研发出来90nm光刻机没办法进行量产 , 贺荣明只能眼睁睁的看着千辛万苦研制出来的样机成为了摆设 。


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