国产光刻机的艰辛突围路:07年出样机,被国外卡脖子9年才量产( 二 )
- 国产光刻机关键零部件突围之路
第一个关键零部件 , 镜头曝光系统 。
担任这一重要任务的是长春光机所 。
长春光机所始建于1952年 , 由中科院长春光机所与中科院长春物理所于1999年整合而成 , 是新中国在光学领域建立的第一个研究所 , 主要从事发光学、应用光学、光学工程、精密机械与仪器的研发生产 。
在长春光机所和相关单位的努力下 , 非球面光学元件投影光刻机曝光光学系统被研制成功 。
第二个关键零部件 , 激光光源 。
这一任务难度巨大 , 因为当时所有的激光光源厂商都已经被asml收购 , 只有一家日本公司独立生产光源 。
但即便如此 , 它也不肯卖给我们 。
担任这一任务的是中科院光电研究院 。
中国科学院光电研究院组建于2003年11月 , 是隶属于中国科学院的国立研究机构 , 实力强大在光电工程领域展开开前沿性、战略性和系统集成创新工作 。
在接下光刻机中的Arf准分子激光光源攻关任务后 , 中科院光电研究院历时9年的艰苦努力 , 终于攻克90nm光刻机激光光源难题 。
另外还有浙江大学攻克光刻机浸液系统 , 清华大学攻克了配套双工作台系统......
文章插图
在举国努力下 , 我们足足用了9年才完全突破这些技术问题 , 终于将90nm光刻机从样机变成了量产机型 , 开始向客户供货 。
ASML的光刻机再好 , 也是别人的 , 不想给我们用时就不给 。
上海微电子的光刻机再不好 , 也是咱们自己的 , 在被人卡脖子时 , 也只有自己人才会帮忙 。
如今美国利用先进光刻机与芯片对我们整个科技行业卡脖子 , 你认为国产厂商能够再次突围成功吗?
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