国产芯再传好消息,关键技术问题已经解决,与荷兰光刻机联机成功

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芯片道路上的“拦路虎”科技的力量将极大推进一个国家的发展 , 如果这一次芯片的风波 , 或许我们还不能够如此深刻意识到 , 我国的科技短板在哪里 , 如果这方面技术的缺失又意味着什么?
芯片国产化是一条必行之路 , 只有这个局面打开了 , 那么就能够打破“卡脖子”的境遇 , 因此对于芯片领域 , 各个力量都已经在助力了 。 要知道芯片这个技术的壁垒 , 并不容易攻克 。
国产芯再传好消息,关键技术问题已经解决,与荷兰光刻机联机成功文章插图
这是一场持久战 , 我国在芯片领域并非是完全空白的 , 不要小看芯片的体积小 , 但是所包含技术和设备却非常的多 , 芯片想要实现量产 , 需要攻克不少的技术难题 。
就好比芯片是一块复杂的拼图 , 在这块拼图上面 , 我国已经拼好了几块完整的领域 , 但是还存在一部分的空白 , 还需要后期进行不断的填充 , 才能够实现芯片量产 。
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华为海思是一家芯片设计公司 , 已经涉足半导体领域长达多年的时间 , 在芯片的设计领域也实现了突破 。 可以说芯片总得分为三大块 , 芯片设计 , 芯片制造 , 芯片封装 。
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在头尾两部分 , 我国已经有了突破 , 而最主要的就是芯片制造领域 , 芯片制造领域这一块里面又承载了很多的技术和设备 , 比方说光刻机、蚀刻机、涂胶显影机等等 , 单单设备就已经非常的繁多 。
并且这些设备想要实现自产化并不容易 , 单单一个光刻机就已经是困难重重 , 全球能够生产高端光刻机也就只有 , 荷兰的ALSM公司 , 因此在芯片前行的道路上 , 存在很多的“拦路虎” 。
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国产芯迎来好消息对于芯片目前的这个局势 , 任何的突破都非常的振奋人心 , 确实我们也迎来了不少的捷报 , 比方说上海微电子突破了28nm光刻机 , 这一次国产芯再传好消息 , 关键技术问题已经得到了解决 , 与荷兰光刻机联机成功 。
我国的芯片设备公司芯源微传来了好消息 , 该公司表示 , 前道涂胶显影机与国际光刻机联机这两个技术问题已经被攻克了 , 并且经过了反复的验证之后 , 已经能够与ASML、佳能、上海微电子的光刻机进行联机应用了 。
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这也说明了我国的科技又取得了一大进步 , 要知道前道涂胶显影机这个设备非常的重要 , 我们都清楚生产芯片所需要用到的设备是非常多的 , 而前道涂胶显影机是属于芯片生产过程中 , 核心的部件 。
我国在这个设备上实现了突破 , 芯片国产化又往前推进了一步 , 同时也打破了这个领域的垄断 , 可能相比海外的产品还存在一定的差距 , 但是也说明了我国已经在不断的实现突破 。
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芯片这块拼图 , 随着各个技术不断攻克 , 最终也能够成为一块完整的拼图 。 或许这中间还需要不少的时间 , 但是这一天并不会太晚 , 毕竟我国的科技力量早已经茁壮成长起来了 , 并且我国还有很多优秀的企业和科研团队 。
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写在最后国产芯再次传来好消息 , 关键技术问题已经得到了解决 , 在前道涂胶显影机与国际光刻机联机这两个方面得到了突破 , 因此可以与荷兰光刻联机进行联机 。


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