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光刻机国产历时八年原来中科院早有核心技术突破！

光刻机国产迎来希望 ， 历时八年 ， 原来中科院早有核心技术突破！12小时前由于众所周知的原因 ， 华为这几年过得比较艰难 ， 但是这也给我们敲响了警钟！那就是芯片产业的国产化趋势 ， 必须加快速度 。虽然芯片是大小不及拇指大小的一块半导体产品 ， 但是由于在现代社会各种的电子设备都需要用到芯片作为核心部件之一 ， 所以芯片的重要性不言而喻 。而中科院院长也宣布 ， 要把“卡脖子”清单 ， 转化成为下个阶段的科研任务清单 ， 包括像是芯片制造的核心设备：光刻机 ， 以及航空轮胎 ， 轴承钢等等 ， 都会集中力量去攻关！光刻机国产历时八年原来中科院早有核心技术突破！
在很多人还在问光刻机是什么的时候 ， 实际上中科院已经有了底气！那就是位于长春的中国科学院长春光学精密机械与物理研究所（简称“长春光机所”） 。这是我国在光学领域建立的第一个研究所 ， 曾经创造了中国第一台红宝石激光器、第一台大型电影经纬仪等多种先进仪器设备 ， 更是拥有十几项的记录！光刻机国产历时八年原来中科院早有核心技术突破！
在光刻机的全球市场中 ， 是荷兰的ASML公司以及日本的尼康、佳能三家公司瓜分大部分市场 。而目前来看代表行业先进设备的是EUV的光刻机 ， 而这个只有ASML独占鳌头！那么国产光刻机就没有希望了吗？这里就要提及中科院长春光机所了 ， 实际上在20多年前 ， 也就是上世纪90年底 ， 长春光机所就已经在开始专注于EUV/X射线成像技术研究 ， 拥有了极紫外光学的应用技术基础 。在后来的2002年 ， 完成了国内第一套EUV光刻原理装置 ， 而且开始在2008年着手“极紫外光刻关键技术研究”项目研究工作！光刻机国产历时八年原来中科院早有核心技术突破！
终于在2017年 ， “极紫外（EUV）光刻关键技术研究”项目验收顺利通过！历时八年的艰苦奋战 ， 突破了制约我国极紫外光刻发展的超高精度非球面加工与检测、极紫外多层膜、投影物镜系统集成测试等多项核心单元技术 ， 成功研制了波像差优于0.75 nm RMS 的两镜EUV 光刻物镜系统 ， 构建了EUV 光刻曝光装置 ， 在国内首次获得EUV 投影光刻32 nm 线宽的光刻胶曝光图形 。就连在现场的EUV光刻专家 ， 我国科技部原副部长曹健林 ， 都表示 ， 历经30年的“中国光刻梦”正在慢慢实现！而且通过这一系列的国产光刻技术研发能力的建立 ， 也能让“中国光刻梦”的信心大幅度的增加！光刻机国产历时八年原来中科院早有核心技术突破！
正是因为有着这20多年的积累 ， 历时8年的艰苦研发 ， 中科院才有底气宣布要攻克光刻机等核心技术 。正如华为此前一直隐藏的“备胎”计划一夜转正一样 ， 未雨绸缪 ， 是我们的优良传统！光刻机国产历时八年原来中科院早有核心技术突破！
在今年 ， 中科院长春光机所宣布 ， 长春光机所作为依托单位获批建设“中国科学院精密光电制造技术工程实验室” 。这更是代表了国家的支持 ， 拥有深厚的技术积累 ， 即便光刻机是有着超过10万个零部件 ， 需要全产业链的支持 ， 但是中国科学院依然能够调动全国的人才来进行攻克！半导体行业虽然是全球制造业最高端的行业之一 ， 但是也是我们正在努力攻破的产业 。 特别是在《中国制造2025》技术路线图中 ， 列出了多种需要攻克的半导体工艺 ， 里面就提及了EUV光刻机以及18英寸晶圆产业 。光刻机国产历时八年原来中科院早有核心技术突破！
除了光刻机的核心技术：极紫外（EUV）光刻技术 ， 就在2019年 ， 在清华大学朱煜教授带领下 ， 北京华卓精科成功的研制出了光刻机又一重要部件：双工件台 。要知道工件台是光刻机三大核心的光源、投影物镜、工件台中的重要一环 ， 所以中国成为继荷兰的ASML之外 ， 全球第二家掌握这项核心关键技术的国家 。总的来说 ， 我们有着在默默科研 ， 奉献几十年心血的科学家 ， 也有积极自救的大型企业 ， 光刻机 ， 或者说国产半导体产业 ， 依然是要艰苦创新 ， 坚持自研 ， 这样才能突破国外的垄断！我们也要对国内的半导体企业有充足的信心 ， 芯片领域的摩尔定律逐渐逼近 ， 给予我们一定的时间 ， 我们一定能造出属于自己的光刻机 ， 甚至是芯片全产业链的国产化替代！各位你们有什么看法呢？欢迎留言讨论 。


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