以前中国研制的光刻机
以前中国研制的光刻机上世纪部分国产光刻机:型号名称 研发部门 交付时间 类型 制程GK-3 电科45所 1977 半自动接触式 5μm-6μmGK-4 电科45所 1978 半自动接触式 5μm-6μmJK-1 上海光机所 1981 半自动接近式 2.25μm-3μmKHA75-1 中科院109厂等 1981 半自动接近/接触式 无详细数据BG-101 电科45所 1984 直接分步曝光 2μm无型号名 上海光机所 1985 扫描投影式 3μmIOE1010G 中科院光电所 1990 分步重复扫描投影式 1.5μm-2μmBG-101J 电科45所 1991 分步重复直接投影式 1.5μm-2μmBG-102 电科45所 1995 分步重复直接投影式 0.8μm无型号名 中科院光电所 1996 分步重复扫描投影式 0.8μm-1μmBG-105 电科45所 2000 分步重复扫描投影式 0.5μm-0.8μm其中国献最大的电科45所的光刻机团队于2002年迁至上海 ， 成立了上海微电子装备；
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