光刻机|厉害了！中国国产5nm光刻技术或将改写，荷兰光刻机怕要失望了
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我们在芯片发展方面的缺陷还是比较大的 ， 这就造成了更多的一些障碍 ， 在发展的过程当中 ， 有一些好的进展和成效才能够在更大程度上带给我们一生好的上升能力 ， 但是这些都并不是只要想发展就能够发展的好的 。
技术的提升需要更多科研人员的努力以及不断实验的累积 ， 所以即使我们进展的比较长 ， 一些事件的发展也需要更多方面的 。
能力汇集在芯片事业的发展上 ， 算是我们的一个技术痛点 ， 我们在这方面一直无法突破一些关键性的技术 ， 所以也在研制生产过程当中需要很多的帮助 ， 尤其是在光刻机技术研制上的缺陷还是比较大 。
现在拥有最强光刻机的就是荷兰 ， 他们在光刻机的研制上有着更大程度的提升 ， 并且长期以来的发展让他们积累了很多的经验 ， 只要他们想更尖端的光科技也是他们能够制造出来的 。
相比之下我们的进展就非常的困难 ， 今年美国对于华为的经历也让我们吃到了苦头 ， 想要有一些更好的发展 ， 不论是哪一方面都不可以有所拖延 ， 而我国的光刻技术难以突破 ， 这是限制我们发展的一大原因 。
但好在经过科研人员不断努力之下 ， 还是有一些好消息 ， 我们国家纳米研究所的研究员张子和刘前发表了一篇论文 ， 这篇论文主要说的是我国的研究团队已经设计并且开发了新型的三层堆叠薄膜结构 ， 这样的一种结构可能大家都会觉得陌生 。
但是如果说他是芯片研制技术的一个发展领域 ， 大家就可能会比较好理解了 ， 而郑重技术也可能会让荷兰的光刻机技术失望了 。
现在关于光刻机的研制有着很多的方面 ， 而最小的5纳米芯片需要的技术更为高端 ， 而如果我们真的能够如论文当中一样使用那样的技术的话 ， 也就意味着 。
关于5纳米芯片的特征我们也能够实现 ， 而这种与一般的光刻技术相比 ， 它是一种无掩膜的光刻技术 ， 直接用激光刻的设备 ， 如果之后真的能够发展的话 ， 就是完完全全属于我们的自主知识产权 。
【光刻机|厉害了！中国国产5nm光刻技术或将改写，荷兰光刻机怕要失望了】就不用害怕再像现在这样受到其他国家的限制了 ， 如果这一技术能够实现的话 ， 关于5纳米技术也将被直接改写 。
好了今天就为大家介绍到这里 ， 我们下一期再见！
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