江苏龙网

  1. 首页 > 人文 > >

三星台积电EUV光刻机之战推演：榨干ASML未来5年产能( 五 )


三星台积电EUV光刻机之战推演：榨干ASML未来5年产能文章插图
ASML的2020 EUV设备需求和引进预测（来源：摘自ASML的投资者简报材料“业务模型和资本分配策略” ， 2018年11月8日）
根据ASML的高需求预测 ， 对EUV光刻机的需求量为35台 ， 而引进量为33台 。 与之对照 ， 2020年共交付了40台EUV光刻机 。 简而言之 ， 实际需求超出了ASML预测的高需求 。
此外 ， ASML用上述材料预测了2025年EUV的需求和引入 。 在高需求下 ， high-NA预计为9台+55台 ， 也就是说预计将总共有64台EUV光刻机的需求 。
三星台积电EUV光刻机之战推演：榨干ASML未来5年产能文章插图
ASML的2025年EUV需求和引进预测（来源：摘自ASML的投资者简介材料“业务模型和资本分配策略” ， 2018年11月8日）
实际上 ， 自2021年以来 ， 台积电和三星的总需求量约为80台EUV光刻机 。 而ASML早在两年前就预测了64台的需求量 ， 因此对于ASML ， 是可能满足超出预期的需求的 。
由于2019年和2020年没有“Investor Day” ， 因此目前尚不清楚ASML如何在过去两年中调整其对EUV需求和采用量的预测 。 不过 ， 为响应自2018年以来向上修订的需求 ， ASML将计划缩短EUV设备的打造时间并增加Cabin数量 。
结语：逻辑半导体缩放将继续综上所述 ， 尽管台积电和三星对大约80台EUV光刻机的需求量不会立即得到完全响应 ， 但预计ASML在未来几年内将交付类似数量的EUV光刻机 。 随着EUV光刻机数量增长 ， 3nm和2nm将走向批量生产 。
关于台积电和三星的微缩化竞争 ， 看来台积电将在EUV成熟度和3nm的大规模生产方面处于领先地位 。 但三星计划尽快推出High-NA ， 可能会在2nm之后恢复 。
在逻辑半导体方面 ， imec的Myung Hee Na在IEDM2020上宣布了直至1nm的半导体路线图 。
三星台积电EUV光刻机之战推演：榨干ASML未来5年产能文章插图
迈向1nm制程的半导体路线图（来源：imec）
根据该路线图 ， 逻辑半导体制程将发展向2nm、1.4nm、1nm乃至0.7nm ， 摩尔定律仍然存在 。
台积电和三星在2nm之后的微缩化竞争中将占据主导地位？还是会出现黑马？我们将继续关注EUV和使用该技术的微缩化 。
【三星台积电EUV光刻机之战推演：榨干ASML未来5年产能】来源：EE Times Japan
三星台积电EUV光刻机之战推演：榨干ASML未来5年产能文章插图


推荐阅读


上一篇：海外|南方周末年度盛典腾讯视频WeTV获年度创新案例奖

下一篇：喵博士资讯 | 全球5G市场份额排名华为第一；爱立信将三星告上法庭