与非网|积极追赶台积电龙头厂家，凸版印刷将用于5nm光掩模版
CINNOResearch产业资讯 ， 凸版印刷计划在2021年量产用于半导体方向 ， 5纳米（最尖端的蚀刻线宽 ， 1纳米为1米的十亿分之一）的光掩膜板（PhotoMask） ， 以应对新一代移动通信规格（5G）、无人驾驶方向的高机能半导体的需求 。 此外 ， 凸版印刷还争取在2023年量产3纳米光掩膜板 。
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【与非网|积极追赶台积电龙头厂家，凸版印刷将用于5nm光掩模版】资料图（图片来源：互联网）
对于半导体 ， 线路的线宽越细 ， 性能越好 ， 如今 ， 台积电（TSMC）、韩国三星电子都在致力于5纳米半导体的量产 ， 两家公司都在内制光掩膜板的生产 。 要生产5纳米半导体 ， 需要具备EUV的超高端技术 。
凸版印刷计划5纳米生产普及到继三星等之后的“第二梯队”厂家时 ， 开始接光掩膜板的订单 。 由于5G、无人驾驶等市场的扩大 ， 需要处理大量数据的半导体的需求提升 ， 因此大规模集成线路（LSI）、用于智能手机等的DRAM的细微化在不断发展 。
光掩膜板是量产尖端半导体不可或缺的材料 ， 在硅晶圆上刻制线路时使用 ， 发挥着如同照片底片的作用 。
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