上海微电子:第一台28nm国产光刻机交付在即
上海微电子:第一台28nm国产光刻机交付在即据媒体报道 , 上海微电子装备(集团)股份有限公司披露 , 将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机 。 虽然这与当今国际顶尖的7nm乃至是5nm光刻机还有数代的隔阂 , 但是差距已经大大缩小 , 毕竟在此之前国产光刻机还是90nm 。据悉 , 上海微电子是国内技术最领先的光刻设备厂商 , 从低端切入各个细分市场 , 现已成为封测龙头企业的重要供应商 , 国内市场占有率高达80% , 全球市场占有率也有40% , 同时旗下LED/MEMS/功率器件光刻机性能指标领先 , LED光刻机市占率第一 。
上海微电子现有4大系列的光刻机产品 , 其中600系列步进扫描投影光刻机面向IC前道制造 , 采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术 , 以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术 , 可用于90nm、110nm、280nm工艺和200mm、300mm晶圆生产 。500系列面向IC后道先进封装 , 300系列面向LED、MEMS、功率器件制造 , 200系列面向TFT曝光 。
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