台积电|连美国的脖子都能卡！台积电到底是怎样炼成的？( 四 )
当年的光刻机巨头可不是 ASML ， 而是尼康和佳能这些日本 “ 遗老 ” 。
以这两家为首的公司花费巨资在研究 157nm 的干式光刻机上 ， 准备在前代的基础上再优化优化 。
另一批以英特尔为首的公司则是准备激进的押注极紫外光 ， 直接把 157nm 给一步快进到几十纳米 。
也就是我们现在熟悉的 EUV 光刻机上 。
英特尔这个想法 ， 在近 20 年后实现了▼
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但台积电此时则是出了个鬼才林本坚 ， 他和 ASML 一起 ， 选择用水来替代空气做介质……
水会影响光的波长 ， 而 193nm 波长的光通过水的折射 ， 正好变成了 132nm ， 直接跳过了最麻烦的 157nm 。
以大大领先友商的进度 ， 台积电和 ASML 很快就发布了最新的光刻机 。
良率 ， 产量都高于预期 。在那之后 ， 所有研究的晶圆厂商都开始选择 ASML 的浸润式光刻机 。
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而尼康和佳能死磕 157nm 却一直没有得到突破 。等尼康和佳能总算反应过来的时候 ， 已经落后台积电两三年内的技术了 。一步错 ， 步步错 。
前瞻产业研究院整理 ▼
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日本的半导体行业可能是被美国杀死的 ， 但把它埋葬的 “ 人 ” 里一定有台积电 。
而也正是这些交情 ， 让台积电在未来数年里一直和 ASML 保持着深度的合作友谊 。ASML 也从岌岌无名的小厂一跃而起 ， 掀起了全球半导体行业风云 。
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通过这次机会 ， 台积电牢牢地把握住了晶圆研发的最重要武器之一 —— 光刻机 。
2009 年 ， 受到金融危机的影响 ， 台积电有过短暂的低潮期 ， 元老张忠谋再度出山 。
78 岁的他眼光狠辣不减当年 ， 选择押注未来手机市场的潜力 ， 集中公司的力量开始研究 28nm 工艺 。
个中曲折不自多说 ， 但是最终的结局和数年前的 0.13 微米一样 ， 台积电再次在这个领域大获全胜 。
台积电选择的后闸级方案成功超过三星的方案 ， 在 2011 年 10 月宣布成功量产 28 nm 制程 。
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而且 ， 得益于苹果和三星在手机市场的竞争关系……
苹果三星抄袭门 ▼
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苹果急需新的手机芯片代工厂 ， 于是也找到台积电搭上了关系 。
在 2014 年台积电开始插手三星的领域 ， 开始代工苹果的 A8 芯片 ， A9 和三星共分苹果订单……
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再往后的时间里 ， 台积电和苹果是越走越近 ， A10 ， A12 ， 到我们最近耳熟能详的A15 ， M1 ， M2 ， 都是交给台积电代工 。
讲到这里 ， 故事中的台积电 ， 已经和我们印象中的那个台积电越来越接近了 。
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其实这两年 ， 大家对台积电的印象可能还是来自美国对华为的制裁 。
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