光刻机是我国芯片制造业一大痛点 , 目前 , 在EUV光刻机赛道中 , 仅有ASML一个玩家 。
然而 , 受到《瓦尔森协定》的约束 , ASML无法向中国大陆出售EUV光刻机 。 可以说 , 光刻机的短缺狠狠卡住了中国芯片的脖子 。
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为了实现国产芯片自主可控 , 不少研究机构开始探索一种绕开光刻机的方法 。 西湖大学研发的冰式光刻机 , 便是其中之一 。
冰刻机工作原理及过程
冰刻机的物理依据十分简单:在零下将近140°的真空环境中 , 水可以直接凝结成冰 。 冰刻机便是依据水遇冷凝结的原理 , 来实现光刻机的功能 。
据冰刻机研究人员介绍 , 在样品放入真空设备后 , 首先要进行降温处理 , 之后便会注入水蒸气 , 使得样品上凝华出薄冰 , 形成一层“冰胶” 。
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这层“冰胶” , 便代替了传统芯片制造中光刻胶的作用 。 值得注意的是 , 冰刻胶并不是普通冰 , 而是兼具光刻胶与冰特性的新型化学合成冰 。
被电子束打到的冰会瞬间气化 , 从而直接雕刻出冰膜板 。 再经过一系列加工步骤 , 由冰刻而成的芯片便成功亮相 。
冰刻机优势
与光刻机相比 , 冰刻机的优势颇多 。
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一是 , 冰刻机解决了光刻胶的多项短板 。
在传统芯片制造过程中 , 第一步便是要将光刻胶均匀涂抹在样品之上 。 这一过程一旦做不好 , 生产过程中就容易出问题 。
而且 , 光刻胶对所涂抹样品的材质、面积都有要求 , 不能太小或太脆弱 。
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而冰刻胶则要“随意”许多 。 水蒸气可以包裹在任意形状的表面 , 而且其十分轻盈 , 不会对加工材料造成影响 。
另外 , 使用冰刻胶还能直接省去化学试剂清洗形成的模具的步骤 , 不会出现因光刻胶残留 , 致使良品率低下的问题 。
二是 , 冰刻技术更加清洁 。
在传统芯片生产过程中 , 需要多次用化学试剂对光刻胶进行冲洗 , 而冰刻技术则不需要这一点 。
因为 , 冰在融化或成为水蒸气后 , 便会消失的无影无踪 。 如此一来 , 便能够大大降低洗胶造成的污染 。
【光刻机|国产芯片加速前进,“冰刻技术”迎来突破,能否绕开光刻机?】如今 , 西湖大学纳米光学与仪器技术实验室负责人仇旻及其团队 , 已经在该领域攻克8年之久 , 诸多成绩已经逐渐显现 。
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在Nano Letter、Nanoscale等期刊上 , 团队发布了一系列研究成果 。
如今 , 其已经研发出我国首台“冰刻”系统已经;目前 , 冰刻系统2.0也在全力研发之中 。 未来 , 在三位维纳加工上 , 冰刻技术或有更广泛的应用 。
仇旻及其团队用一次次实验证明 , 冰刻技术并不是异想天开 , 而是切实可行 。
冰刻技术能否绕开光刻机?
那么 , 冰刻技术有这么多优势 , 能否助力国产芯片绕开光刻机呢?
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答案是还不能 , 目前冰刻机还处在实验室阶段 , 距离商用道路漫漫 。 而且 , 冰刻机还有两大难题需要攻克 。
第一 , 生产效率难提升 。
冰刻机采用电子束加工 , 需要逐帧对晶圆表面进行雕刻 。 与光刻机相比 , 在效率上有明显的落后 。
第二 , 确保雕刻精度难题 。
冰刻机工作原理听起来虽然简单 , 但实际操作起来却有许多棘手难题 , 忽略任何一个小细节 , 都会对雕刻的精度产生影响 。 仅注入水蒸气这一步 , 研究团队就进行了无数次试验 。
因而 , 在冰刻机商业化这条道路上 , 还有些不少的阻碍需要解决 。
写在最后
如今 , 全球仅有两家做冰刻的实验室 , 其中一家便在西湖大学 。 没有前人经验作为指导 , 冰刻机的研发只能摸着石头过河 , 十分艰难 。
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这注定是一条孤独的道路 , 而且前路冰刻机前路究竟如何 , 还是一片未知 。
即便如此 , 仇旻仍对冰刻技术抱有极大热情 , 他表示这是项令人激动的新技术 。 他认为 , 冰刻技术将解决光刻无法解决的难题 , 并开辟出全新的科学交叉和研究方向 。
冰刻机的前路究竟如何 , 就让我们拭目以待 。
文/BU 审核/子扬 校正/知秋
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