芯片|8mm时代？中芯国际技术新突破，中国芯片崛起时刻来临！
【芯片|8mm时代？中芯国际技术新突破，中国芯片崛起时刻来临！】
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提到顶尖芯片制造、晶圆体代工厂以及光刻机制造厂大部分人想到的都是台积电、荷兰ASML公司等这些国际知名大公司 ， 台积电目前已经能够独立生产5纳米制程芯片 ， 现代社会最先进的芯片之一 ， 而荷兰ASML公司的EUV光刻机则是世界最先进的光刻机 。 光刻机技术越顶尖 ， 芯片制成就越精密 ， 台积电之所以有这样精密的芯片 ， 就是因为它采用了ASML公司的EUV光刻机 。 在世人的认知中 ， 制造芯片必须用到光刻机 ， 然而并非如此 ， 中芯国际用事实证明芯片不一定需要光刻机 。
中芯国际可以说是世界技术最先进、规模最大的并且跨多国经营的专业晶圆体代工厂 ， 据了解 ， 中芯国际此前已经掌握了90纳米、28纳米、14纳米制成芯片制造技术 ， 并且水准极高 ， 能够达到批量生产 ， 虽然这与台积电的5纳米制成芯片相比 ， 相差极大 ， 但是中国作为一个工业起步晚的国家 ， 自然与台积电会存在差距 。 不过 ， 近日中芯国际传出随着他们的工资水平的再次提升 ， 发明了一种不用光刻机便可以制造芯片的技术 ， 那就是N+1工艺制程 。
N+1工艺是一种高于14纳米20制成芯片20的性能制造的工艺 ， 在缩减成本的同时还能够缩小芯片63％的面积 ， 这也是为什么它能够用于制造8纳米制成芯片的原因 。 此外 ， 不利用光刻机便可以制造出8纳米制成芯片主要还有第二代FinFET技术平台的加持 ， 两项技术的结合 ， 才帮助中芯国际突破了8纳米的大关 。
8纳米制成芯片技术的突破 ， 对我国自主研发工艺技术有极大的帮助 ， 可以提升我国的实力、话语权 ， 同时还可以获得经济加持 。
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