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突破|中科院表态，加快突破光刻机“卡脖子”难题，产业链迎高光时刻

财联社9月17日讯 ， 昨日盘后 ， 国新办就中国科学院“率先行动”计划第一阶段实施进展情况举行发布会 。
发布会上 ， 中科院院长白春礼表示：面临美国对中国高科(600730,股吧)技产业的打压 ， 我们希望在这方面能做一些工作 。 我们把美国“卡脖子”的清单变成我们科研任务清单进行布局 ， 比如航空轮胎、轴承钢、光刻机 ， 还有一些关键的核心技术、关键原材料等 ， 我们争取将来在第二期 ， 聚焦在国家最关注的重大的领域 ， 集中我们全院的力量来做 。
芯片制造是我国最大的短板 ， 直接制约着中国高科技企业的持续健康发展 ， 其中光刻机作为制造芯片的核心装备 ， 重要程度不言而喻 。
然而目前高精度的光刻机只有荷兰、美国、日本、德国等少数企业掌握 ， 其中荷兰的阿斯麦公司（ASML）更是其中的龙头老大 ， 并已经占据了高达80%的市场份额 ， 垄断高端光刻机市场 。
据悉 ， 目前最先进的EUV光刻机精度为7纳米 ， 售价曾高达1亿美元一台 ， 且全球仅仅ASML能够生产 。 而英特尔、三星和台积电都是ASML的股东 ， 享有光刻机的优先供货权 。
与此同时 ， 中国自主生产的光刻机精度约为90纳米级别 ， 与世界最先进水平大约有15年的技术差距 。
其实这些年来 ， 国内早就有设备厂商 ， 以及研究机构在对光刻机进行研发 。 如上海微电子、中电科四十五所、中电科四十八所等 。
目前我国的北斗三号芯片目前已经成功突破了22纳米的限制 ， 它所配套的上海微电子技术也取得了重大突破 ， 成功研制出了22nm的光刻机 。
方正证券陈杭认为光刻机国产替代将迎来新的曙光 ， 尤其是IC前道制造领域 ， 将初步打破国外巨头完全垄断的局面 ， 实现从0到1的突破 。
建议关注以举国之力助力国产替代的光刻产业链 ， 一是光刻机核心组件：负责整体集成的上海微电子、负责光源系统的科益虹源 ， 负责物镜系统的国望光学 ， 负责曝光光学系统的国科精密 ， 负责双工作台的华卓精科 ， 负责浸没系统的启尔机电；二是光刻配套设施：包括光刻胶 ， 光刻气体 ， 光掩模版 ， 光刻机缺陷检测设备 ， 涂胶显影设备等 。
下图为光刻机产业链图谱：
突破|中科院表态，加快突破光刻机“卡脖子”难题，产业链迎高光时刻
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财联社整理光刻机相关概念股包括万业企业(600641,股吧)、张江高科(600895,股吧)、奥普光电(002338,股吧)、晶方科技(603005,股吧)、上海新阳(300236,股吧)等 。
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（责任编辑：冉笑宇 ）


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