光刻机|一个好消息，国产22nm光刻机迎来突破芯片|it芯片

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最近，美国禁止光刻机领域公司与中国合作，企图卡住中国芯片制造业，引起轩然大波。但也暴露出中国光刻机芯片制造领域的不足，在上个世纪光刻机快速发展阶段时，因为光刻机领域花费技术等一系列问题，使得中国并没有赶上队伍，导致差距被越拉越大。但最近一条好消息是中国国产22NM的光刻机迎来新突破，中国芯片迎来新篇章。
光刻机技术突破刻不容缓很多人会问国产芯片何时能代替进口芯片，为什么我们造不出高端芯片？这一个是我国起步较晚，一个就是制造芯片的核心领域光刻机技术短板造成的。要知道芯片制造离不开光刻机，光刻技术也是我们必须要掌握的。要知道华为可以制作手机，制作电视等智能产品，这几年在CPU处理器上也有很大突破。
但是美国禁止海外光刻机公司和中国的合作，中国芯片制造业就瞬间被人掐了脖子动弹不得。虽然中国突破22NM的光刻技术，但是相比国外光科技领域巨头ASML、台积电等7NM的光刻技术还是有一段距离的。
中国光刻领域的挑战与难题此前，我国光刻机是90NM的光刻技术，和世界光刻领域差距非常大，根本不是一个量级，这次虽然我国突破22NM的光刻技术，可以说缩小之间差距，但我国依然面临诸多问题与挑战，首先光刻机技术开始于50年代美国，经过半个多世纪的发展，各个国家通力合作，领域学科之间相互交叉，难度可想而知。我国虽然在在上个世纪六十七十年代也开始摸索，但是始终落后于世界的脚步。
【光刻机|一个好消息，国产22nm光刻机迎来突破】
要想突破就要首先了解当下几个关键问题，首先是ASML等公司已经研制出了5NM的光刻机技术，据悉AMD、高通等公司已经开始了5NM的制程工艺向转变，而国产光刻机刚突破的22NM显然差距明显，根据报道说当前5NM技术相对之前提升约10倍，值得一提的是采用石墨烯芯片可以使得对光刻机工艺要求较低，但现实却是石墨烯芯片技术的突破并不比光刻机简单多少。
还有就是国产光刻机很多制造原材料如光源、透镜等依然依赖外部进口。虽然我们在华为海思的芯片走在世界前沿，但没有光刻机厂家与之代工，那我国的芯片就无法制造。
中国的突破从2002年开始，上海微电子装备最好的90NM光刻技术，到突破22NM的振奋消息，背后是科研人员的默默付出。随着禁令台积电也将不再给我中国代工芯片，凡是涉及美国技术领域的都不可以和中国合作，这也包括了中芯国际等。
虽然现在困境很多，但我国一步也没有停歇，并且再一次突破和掌握了光刻机双工作台的核心技术，打破欧美光刻的技术垄断。
另外，在中科院长春光机所长达七年研发的“1.5米扫描干涉场曝光系统”也打破国外技术封锁，该技术战略意义重大，不仅可以应用于光刻机技术方面，还可以应用在可控核聚变，高能激光等多领域。
这些技术从无到有一点点的突破，代表中国的光刻领域突破不是一蹴而就的，是任重而道远的，但总有一天我国芯片制造业会拿出属于我们自己的骄傲答卷。

光刻机|一个好消息，国产22nm光刻机迎来突破

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