芯片|碳基芯片突破3nm工艺，打破光刻机限制，真相揭秘光刻机|it芯片

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芯片已经成为了一个非常热门的话题，从前没有人提起这一个科技领域，只是知道高通骁龙和华为麒麟，却并不知道这之间的关系，自从华为遭受到了打压之后，所有的人才真正地意识到了中国在半导体领域的短板。
这一个短板可以说是致命的，在美国技术封锁的情况下，竟然将华为逼到了无芯片可用的地步，作为全球顶尖的芯片设计中企，在这一个时候可以说是感受到了真正的绝望，如果能够顺利突破这一次封锁，那么毫无疑问中国在科技领域又会是一次质的飞跃。
【芯片|碳基芯片突破3nm工艺，打破光刻机限制，真相揭秘】在芯片处处遭受打压的同时，还有不少的捷报传出来那就是碳基芯片的研发和突破，据悉我国的碳基芯片技术已经到达了3纳米的工艺，将会彻底打破光刻机的限制，要知道碳基芯片比硅芯片更加的受欢迎。
在未来的时代中硅芯片会逐渐地退出世界舞台，而碳基芯片凭借强大的性能优势独占市场，这些好消息一个接一个的出现，让人不得不怀疑其中的真实性。
其实这里的3纳米指的并不是光刻机制作工艺，而是一种金属氧化物薄膜的厚度，但是碳基芯片的突破确实，对于未来的芯片发展起着至关重要的作用，你们怎么看这件事情？欢迎评论区留言关注！
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芯片|碳基芯片突破3nm工艺，打破光刻机限制，真相揭秘

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