视点·观察|从未存在的“7nm”光刻机

随着近年来芯片行业的发展,大众对于光刻机的关注度越来越高 。媒体和厂商也更加频繁地使用“7nm光刻机”这样的关键词来进行宣传 。但事实是:从来就没有什么救世主,也没有7nm光刻机 。7nm只是一种工艺的代号,它和光刻机本身是不挂钩的 。按照一般人的理解7nm光刻机就是指能制作7nm工艺的光刻机,这个命名方式乍看起来很合理,实际上漏洞百出 。
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截取自中芯国际招股书
举个例子,在中芯国际财报中,公司透露了会将部分生产28纳米芯片的设备转用于生产其它制程产品 。假设中芯国际用于生产28纳米芯片的光刻机将来用于生产45纳米芯片,那么这台光刻机原来应该叫“28nm”光刻机,就因为它生产了45nm芯片,那么他就应该变成更为落后的“45nm”光刻机了?那如果将来它再回来生产28纳米芯片,那么它就又升级成了“28nm”光刻机?但整个过程中光刻机的本质并没有改变啊 。
武汉弘芯不是什么救世主
近期网络上所谓关于武汉弘芯的“7nm”光刻机抵押在银行的消息,闹得沸沸扬扬 。但这真的是“7nm”光刻机吗?
武汉弘芯半导体制造有限公司(HSMC)于2017年11月成立,总部位于中国武汉临空港经济技术开发区 。公司汇聚了来自全球半导体晶圆研发与制造领域的专家团队,拥有丰富的14纳米及7纳米以下节点FinFET先进逻辑工艺与晶圆级先进封装技术经验 。
值得说明的是,14纳米及7纳米的相关工艺经验来武汉弘芯中来自台积电等公司的“前员工”,并不是指公司已经具备了相关的生产技术 。
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截取自武汉弘芯官网
在官网的项目时程中,武汉弘芯14纳米工艺大概会在2020年下半年开始测试流片,其7纳米工艺在2020年开始研发 。而中芯国际在2019年时,其14纳米工艺已经实现量产 。
另外关于武汉弘芯所谓的“7nm”光刻机,根据相关消息此光刻机已被抵押 。
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数据来自天眼查
根据天眼查上的数据,我们可知武汉弘芯所谓的“7nm”光刻机实际型号为TWINSCAN NXT:1980Di 。2019年12月22日,武汉弘芯半导体举行了首台高端光刻机设备进厂仪式,就是为了迎接这款光刻机 。
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数据来自ASML
从ASML官网的数据中我们可以看到,这款2015年推出的光刻机光源波长为193nm,属于DUV光刻机 。且从官网的型号表上可以看到,这款光刻机并非“最优秀”的DUV光刻机 。
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ASML官网上的一款EUV光刻机
要是想制造工艺尺寸更小的芯片,换光源是比较直接且立竿见影的办法 。因此国外为了阻碍我国尖端芯片制造产业的发展,极力限制我国进口波长大致为13.5nm的EUV光刻机,但对于技术相对落后的DUV光刻机限制并不大 。2020年3月4日,中芯国际从荷兰ASML进口的一台大型光刻机已顺利进入深圳厂区,据悉此台光刻机即为DUV光刻机 。
关于武汉弘芯所谓的“7nm”光刻机的命名问题,这款光刻机是否真的能做到7nm工艺呢?目前已有一家中国企业可以用同样水平的DUV光刻机制造7nm工艺的芯片,这家中国企业名为:台湾积体电路制造股份有限公司 。其中台积电第一代7nm工艺N7和第二代7nm工艺N7P均采用了DUV光刻机制造,但是为了更好的性能,其第三代7nm工艺N7+则采用了更为先进的EUV光刻机制造 。
在这其中其实还有一些偷换概念的问题,举个例子:文森特·梵高是一名著名的画家,他的画作价格不菲,甚至有些画作价值过亿 。不过梵高早年穷困潦倒,使用的画笔也很普通,但这并不影响梵高用普通的画笔创作出诸多优秀的画作 。那么这时如果有一个人买到了梵高同款的普通画笔,他就能成为梵高吗?他就能创作出价值过亿的画作吗?
光刻机只是半导体制造工艺的开始,武汉弘芯已经有了台积电同款“画笔”,那么武汉弘芯能否做出同款的“N7”和“N7P”呢?
偷换概念的“7nm”光刻机:业界原本的分类
业界对于光刻机主要是根据其使用光源进行命名和分类 。比如现在处于尖端地位的EUV(extreme ultra violet)光刻机,这类光刻机使用了极紫外光作为光源 。目前业界的EUV光刻机大多使用的是波长为13.5nm左右的极紫外光 。
另一种业界比较主流的光刻机就是DUV(deep ultra violet)光刻机了,这类光刻机使用的是深紫外光作为光源 。目前业界的DUV光刻机大多使用的是波长为193nm的氟化氩准分子激光(ArF excimer laser)或者波长为248nm的氟化氪准分子激光(KrF excimer laser)作为光源 。


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