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芯片|我国的军备芯片是14纳米，而美国是5纳米，这有何影响？


芯片|我国的军备芯片是14纳米，而美国是5纳米，这有何影响？
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信息处理能力上的巨大差距是致命的 ， 各位都不知道商用处理器+加固机柜即可解决吗？
越是特殊用途的芯片 ， 考虑的更多的不是制程的先进 ， 而是制品的可靠 。 所谓5nm顶级芯片就是个过度消费的伪概念 。 目前的战争中这类芯片处于绝对不会用的地位 ， 一个电磁脉冲 ， 全部都会失效 。 俄罗斯的IC工艺更加落后 ， 这并不妨碍军备的发展 。 美军并不会害怕高度科技化的对手 ， 他们只害怕高度政治化的对手 。 这一点 ， 从他们的文宣里面暴露的很充分 。
在芯片制造的环节 ， 比如台积电和中芯 ， 它们技术上的差距最大的是不是就是光刻机？假如中芯能拿到和台积电一样的光刻机 ， 差距是不是能快速缩小？或者说在制造环节 ， 除了光刻机这个工具以外有什么东西是芯片厂自己的技术核心呢？
1 ， 最大差距不是光刻机 ， 而且工艺技术 ， 也就是用光刻机等一系列设备把芯片做出来的水平 。 你做饭光靠菜刀先进就行了吗？半导体工艺涉及到物理 ， 化学 ， 材料 ， 机械 ， 电子 ， 计算机等多学科的模拟 ， 计算和实践应用 。 你操作设备做工艺报出来的是信号和数据 ， 工程师需要对数据进行分析 ， 再设计实验 ， 调整参数 。 这就是提高工艺的过程 。
2 ， 光刻工艺和沉积 ， 离子注入 ， 刻蚀 ， CMP等一系列工艺组成了半导体制造工艺 。 而这些工艺的设备基本上都被欧美日垄断 ， 国产化不到20% 。
3 ， 中芯国际的193DUV光刻机目前做到N7完全够用 。
4 ， 在其他很多设备方面 ， 比如刻蚀设备 ， 缺陷检测设备 ， 中芯国际拥有的设备的先进程度都是最新款的 ， 和台积电N5的设备水平相当 。 做不好芯片就像一个大厨光有菜刀没有厨艺一样 。
半导体制造商的核心技术就是它的工艺 ， 业内称之为“recipe” ， 反映在设备上就是由一系列参数组成的模型/程序 。 设备会根据这模型/程序去计算 ， 指挥设备来完成工艺 。 如果设备不稳定 ， 比如recipe算出来的东西过一段时间就飘得厉害 ， 对制程是非常有害的 。 所以这么精密娇贵的设备能保持很好的稳定性也是非常重要的 。
说白了就是手机 ， 电脑所需要的极致工艺芯片对现代武器所需的芯片有巨大的技术余量 。 至少在当下130纳米与5纳米之间让武器效能的提升有限 ， 反而让其可靠性 ， 稳定性有所下降 ， 一味的追求极致制程对于武器制造来说这基本上是得不偿失的举措 。 如果真有大效果 ， 各个武器大国都会加大投入 ， 往里面砸大钱 。
至于你说的航发芯片提升也就是在保证可靠性前提下做的随大流的技术迭代 。 毕竟谁也无法确定未来芯片工艺是否会极大的影响武器效能 。 军事上的可靠性感觉还包括应对电磁波干扰的能力 ， 理论上说一定强度的电磁波会在电子元件内部产生感应电流 ， 然后感应电流大到一定程度会对半导体元件产生击穿效应 ， 如果是热击穿的话可能芯片直接就废了 。
电磁干扰应该分成电场辐射噪声和磁场辐射噪声 ， 具体表现在MOS里面的噪声电流 。 一般来说 ， 因为工作频率高 ， 射频模块应该都会带阻挡 ， 吸收电磁波的屏蔽结构 ， 来降低板子上不同模块之间的电磁干扰 。


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