光刻机|ASML光刻机，100000个零件，没有一个中国制造？难怪被“卡脖子” asml|中国制造|台积电

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【光刻机|ASML光刻机，100000个零件，没有一个中国制造？难怪被“卡脖子”】

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文| 薰儿
前言最近华为人事部有特殊的动作，竟然开始招聘光刻工艺工程师，这说明了什么？华为要“跨界捞钱”了，虽说不是猛龙不过江，但是也太仓促了。
华为成立于1987年，是一家做交换机发家的企业，几个创始人对于技术都是半桶水，不咸不淡的，能混到现在，多亏了任正非坚决走技术研发的道路。
华为想走芯片制造的路子，可以，当初台积电也是这样发家的，但是台积电有林本坚这样的世界顶级微影专家，华为现在才招收光刻工艺工程师是不是有点晚呢？
而且，有光刻工艺工程师还不行，得有光刻机，荷兰ASML（阿斯麦）制造的光刻机为什么中国造不出来？因为100000个零部件中没有一个是中国制造，严禁技术传入中国。难怪会被“卡脖子” ，但是你知道为什么会这样吗？
一、浸润式光刻机代价巨大自从2000年，林本坚提出浸润式光刻技术以后，台积电受到了各方阻挠，像日本的尼康和美国的IBM都警告台积电，让管束林本坚别乱说话。当时各家刚好在研发157纳米的干式光刻技术（激光镜头跟晶圆之间是空气）。
但是从193纳米升级到157纳米，提升连20%都没有，不符合摩尔定律翻一番的要求，问题很严重，因为每升级一代技术，研发成本高昂，不翻一番，要亏得翻皮水。所以林本坚提出用水取代空气作为介质， 193纳米的浸润式可以胜过157纳米的干式。
但是这样一来，那些建好了工厂的厂商就得亏得翻皮水，这才有了阻挠林本坚的事。
最后还是林本坚带领团队攻克难题，台积电拜会各方大佬，苦口婆心地劝才使技术得以前进。在荷兰阿斯麦的协调之下，德国的精密机床和镜头、美国的激光、日本的材料技术等发力，三星、台积电、英特尔等砸了几十亿美元，最终才研发成功的。
二、技术管控，不用中国工程师付出了那么大的代价，技术方面肯定要保密，国内山寨的技术不是开玩笑，卖两台，用一台，拆一台，这可不是开玩笑的。但是荷兰ASML一年生产的光刻机不足20台，而且是优先提供给股东台积电、三星、英特尔，大家都是抢着要，一台1.48亿美元都算便宜。
在ASML光刻机的100000个芯片里，竟然没有1个是中国制造的，首先是国内的技术有限，其次是避免中方接触光刻机， ASML里面没有一个是中国工程师；最后是《瓦森纳协定》限制中国获得顶尖设备。
中芯国际能够跟阿斯麦接上头，并且谈好了，就已经是万幸了，可惜ASML厂房莫名其妙时候，而且荷兰政府也不敢出示许可证。
总结现在总算是明白了，为什么国内的光刻机会被卡脖子，一来这东西一个国家制造出来的确有困难，人家从无到有花费了巨大的代价；二来就是管控严密，就防着国内的山寨。
但是所幸现在，国内的企业可以摸着ASML过河，虽然以前光刻机里没有中国制造，但是将来世界最先进的光刻机一定是make in China 。上海微电子已经做出来了浸润式的光刻机，刚好就是当年林本坚的第一代技术。