光刻机|好消息！我国新型光刻设备问世，解决多项被国外“卡脖子”技术
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“文/背起行囊（原创文章 ， 欢迎个人转载分享）”旅行是一种病 ， 一旦感染了 ， 你就再也无法摆脱
众所周知 ， 我国在芯片制造这一领域存在着很多短板 ， 而美国打压华为的事件 ， 也让很多人感到气愤 ， 但究其主要原因还是我国无法独立完成芯片的制造 ， 在芯片制造中光刻机技术起着关键作用 。 但是由于我国起步较晚 ， 本身没有优势 ， 所以我国在光刻机领域还没有突破 。 但我国科研人员并没有就此放弃 ， 近日就有好消息传出 ， 我国在光刻机领域取得了重大突破 。
据俄塔设7月7日报道 ， 国内半导体产业又传出利好消息 ， 光刻机工艺制造龙头企业—上海微电子技术公司已成功完成了22nm光刻机的研制工作 。 从技术角度来看 ， 虽然该设备在工艺制程上与国际顶尖大厂荷兰ASML相比还是有一定差距 ， 但从近几年国内光刻机整体研制进程来看 ， 这是我国在光刻机领域所取得的一大突破 。 近年来 ， 在国家政策、资本的助力下 ， 我国的半导体行业发展正逐步缩短与国外的差距 ， 国产替代进程正在加速 。
目前高端的光刻机技术主要掌握在日本、荷兰手中 ， 并且荷兰更是这个行业的霸主 ， 但由于种种的原因 ， 荷兰也是永久对我国进行了封锁 ， 其实目的很简单 ， 主要害怕我国琢磨透而影响他们 。 如今我国终于突破枷锁 ， 并且他们采用的二束激光在自研的光刻机上 ， 成功的突破了光束衍射极限的限制 ， 因此也是研发出了9纳米的线宽 ， 虽然和西方的光刻技术有所差别 ， 但也是我们自主研发的了 。
预计首台有完全自主知识产权的28纳米级光刻机将在2021年正式使用 ， 而有了光刻机中科院研发的2nm芯片预计会在2024年投入生产 ， 到时候国产芯片将达到国际水平 。 我国距离芯片技术的研发、生产、销售这样的一条龙服务 ， 其实还是有一定距离 ， 芯片领域的每次科研突破都十分困难 ， 我国需要拥有自主研发的芯片 ， 才能不被别的国家封锁技术 ， 实现真正的“中国制造” 。
据悉 ， 我国首款光刻机 ， 第一个合作的对象将是国家重点扶持的上海微电子厂 ， 在强强联手下 ， 想必会给科技圈带来很大的影响 ， 根据华卓精科的负责人表示 ， 他们其中的一个部件零售价将达到6000万元 。
这是多么大的一个数字啊 ， 除了表明研究的困难性之外 ， 也向人传递除了光刻机的利润 ， 一个部件的价钱都这样了 ， 整台光刻机的价值则是达到了数十亿甚至上百亿 。 光刻机的诞生可以很好的缓解我们国家没办法制造的问题了 ， 像华为这种大企业只需要提供科技技术就可以了 ， 再也不用看欧美国家的脸色了 。
【光刻机|好消息！我国新型光刻设备问世，解决多项被国外“卡脖子”技术】虽然现阶段全球半导体行业仍呈垄断局面 ， 但在当前国产替代浪潮的推动下 ， 我国半导体设备正逐步打破国外垄断 ， 未来发展前景广阔 ， 摆脱“卡脖子”情境指日可待 。
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