华为要自主研发光刻机了?
整理/张蓝翼封面/华为官网这两天 , 关于华为要研制光刻机的消息刷屏了微博和微信朋友圈 。 消息的来源是 , 华为在大规模招聘光刻机技术人才 , 要求全职 , 且不限经验 , 工作地点在东莞松山湖 。
据传 , 国内很多厂家接到了来自华为的配套产品的询价 。 甚至还有传言称 , 华为内部的精干力量已大量调到了光刻机部门;华为新成立的光刻机部门 , 24小时工作 , 吃住都在公司 , 前期评估5NM光刻机2年内投入量产 。此外 , 另有消息称 , 华为早在4年前就已经申请了一项关于光刻设备的专利 。
《国际电子商情》从“中国专利公布公告”上查询得知 , 该专利于2016年9月9日在中国专利局申请 , 申请人是华为技术有限公司 , 发明人为弗洛里安·朗诺斯 。 换言之 , 华为早在4年前就开始着手光刻机产业的相关研发 。
华为在专利文档中表示 , 本发明实施提供了一种光刻设备和光刻系统 ,通过使用光开关和至少两个光子器件在基材表面形成干涉图案 , 可以避免平移基材 , 从而提高了光刻处理的效率和干涉图案的精确度 。据悉 , 当前光刻设备通过单个聚焦透镜形成干涉图案 , 当需要在较大的基材表面上制备周期性图案时 , 需要通过平移步进装置 , 平移承载基材的支架 , 并需要复杂的对准步骤 ,由于平移步进装置价格昂贵且精确度不高 , 现有的光刻设备存在处理效率较低以及形成的图案精确度不高的问题 。针对传言 , 《中国半导体论坛》发文称 , 在当前的形式下 , 华为进军光刻机 , 是符合逻辑的 。 华为海思目前空有设计能力 , 却没人代工生产 。 之前华为总裁任正非布局芯片就是防止芯片方面被卡脖子 , 如今在芯片代工生产环节成了被美国拿捏的弱点 , 一不做二不休 , 干脆一整套全干得了 , 像三星那样布局完整的产业链 。不过 , 《中国半导体论坛》认为 , 在理论上 , 华为想要2年内搞出5NM光刻机 , 基本等于天方夜谭 。 第一 , 光刻机这种东西 , 不是说做就做的 。 上海市政府和国家共同领头的上海微电子 , 经过十几年的努力才做到96nm 。 中芯国际成立了20个年 , 目前14nm才刚刚成熟 。 就这 , 已经算是很快 , 很牛了 。 华为想要2年搞出5NM , 有点异想天开 。第二 , 华为招聘的是“光刻工艺工程师” , 这个职位是属于研发岗位 , 也就是华为向代工厂派遣工程师 , 来监督和指导工艺制造 。 如果华为打算自己造光刻机 , 招聘职位应该是“光刻设备工程师” 。不过 , 也有人认为 , 华为如果自己搞芯片工厂 , 搞光刻机成功的概率依然存在 。 第一 , 华为不缺钱 。 第二 , 华为之前虽然不能生产芯片 , 不能生产光刻机 , 但相关的原理、技术储备并不缺 。 第三 , 如果华为真的要搞光刻机 , 国家肯定是大力扶持的 。 所以 , 虽然2年内5NM光刻机投入量产看起来有点扯淡 , 但至少钱到位、人才到位 , 在国家的大力扶持之下 , 未来有一天 , 或许能成真 。
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