光刻机原理,光刻机的基本原理

光刻机原理
【光刻机原理,光刻机的基本原理】
光刻机又称掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统 。其原理是在加工芯片的过程中,光刻机通过一系列的光源能量、形状控制手段,将光束透射过画着线路图的掩模,经物镜补偿各种光学误差,将线路图成比例缩小后映射到硅片上,然后使用化学方法显影 , 得到刻在硅片上的电路图 。
一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、激光刻蚀等工序 。经过一次光刻的芯片可以继续涂胶、曝光 。越复杂的芯片,线路图的层数越多,也需要更精密的曝光控制过程 。
光刻机是芯片制造的核心设备之一,按照用途可以分为好几种:有用于生产芯片的光刻机;有用于封装的光刻机;还有用于LED制造领域的投影光刻机 。

光刻机原理,光刻机的基本原理

文章插图
光刻机的基本原理光刻机的原理是利用光刻机发出的光,通过具有图形的光罩,对涂有光刻胶的薄片曝光,光刻胶见光后会发生性质变化,使光罩上的图形复印到薄片上,从而让薄片具有电子线路图的作用 。
光刻的作用,类似照相机照相 。照相机拍摄的照片是印在底片上,而光刻刻的不是照片,而是电路图和其他电子元件 。
光刻机就是放大的单反,光刻机就是将光罩上的设计好集成电路图形通过光线的曝光印到光感材料上,形成图形 。
光刻是集成电路最重要的加工工艺,如同金工车间中车床的作用 。光刻是制造芯片的最关键技术,在整个芯片制造工艺中,几乎每个工艺的实施,都离不开光刻的技术 。


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