阿斯麦|ASML工厂探秘：3亿美元一台的EUV光刻机首次亮相( 六 )
但是，High NA EUV光刻系统造价相比前代的EUV光刻机也更高了，达到了3亿美元 。
在此次CNBC的采访当中，ASML似乎也是首次公开展示了High NA EUV光刻系统EXE 5000 。不过，ASML并未介绍更多的细节信息 。但从外形来看，High NA EUV光刻系统要比前代的EUV光刻系统高度更高 。
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△High NA EUV光刻系统EXE 5000
值得注意的是，ASML总裁兼CEO温宁克透露，在2021年第四季度，ASML获得的价值为70.50亿欧元的新增订单当中，0.35 NA EUV光刻系统和0.55 NA EUV光刻系统的订单金额就达到了26亿欧元 。
温宁克表示，ASML在2021年第四季度收到了一份TWINSCAN EXE:5000的订单 。自2018年以来，ASML已经收到四份TWINSCAN EXE:5000的订单 。
据了解，EXE:5000主要面向的是3nm工艺，而第二代的0.55 NA EUV光刻机TWINSCAN EXE:5200将会被用于2nm工艺的生产 。
据温宁克透露，在2022年初，ASML已收到了下一代的TWINSCAN EXE:5200的第一份订单（来自英特尔），这标志着ASML在引入 0.55 NA EUV光刻的道路上又迈出了一步 。
【阿斯麦|ASML工厂探秘：3亿美元一台的EUV光刻机首次亮相】根据ASML的路线图，TWINSCAN EXE:5000将会在今年下半年出货，每小时可生产185片晶圆 。而TWINSCAN EXE:5200将会在2024年底出货，每小时可生产超过220片晶圆 。
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