Intel|Intel EUV极紫外光刻设备进厂：冲刺“4nm”工艺
位于爱尔兰莱克斯利普(Leixlip)、投资70亿美元的Intel Fab 34晶圆厂迎来重要时刻：一台光刻胶显影设备(lithography resist track)缓缓进入工厂 ， 这也是该厂的第一台巨型芯片制造工具 。
该设备来自Intel美国俄勒冈州工厂 ， 搭乘飞机越过大西洋 ， 来到了爱尔兰 。
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这台设备将与EUV极紫外扫描仪搭档 ， 首先为硅晶圆覆上精密的涂层 ， 然后进入EUV扫描仪 ， 进行曝光 ， 接着晶圆回到光刻设备 ， 再进行一系列的高精密光显影、清理操作 。
一座典型的晶圆厂包含大约1200台先进制造设备 ， 大部分价值都在百元美元级别 。
Intel Fab 34晶圆厂2019年动工建设 ， 计划2023年正式投产 ， 将会把Intel在爱尔兰的产能翻一番 ， 并为未来生产Intel 4工艺铺平道路——严格来说是Intel 7nm ， 但是官方重新命名 ， 认为它可以媲美行业4nm水平 。
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【Intel|Intel EUV极紫外光刻设备进厂：冲刺“4nm”工艺】Alder Lake 12代酷睿、Raptor Lake 13代酷睿都是Intel 7工艺(10nm ESF) ， Meteor Lake 14代酷睿和代号Granite Rapids的下下代至强都将用上Intel 4工艺 。
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官方透露 ， 新工艺研发进展顺利 ， 芯片测试已经完美通过 ， SRAM、逻辑单元、模拟单元都符合规范 ， 去年第二季度还早早完成了Meteor Lake计算单元模块的流片 。
Intel现阶段正在全球建设、升级晶圆厂 ， 除了爱尔兰还有美国本土的亚利桑那州、新墨西哥州、俄勒冈州 ， 以及马来西亚 ， 投资上百亿美元 ， 很快还会宣布在欧洲、美国的更多晶圆厂建设计划 。
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