官宣研发1nm工艺！中国芯片巨头采购大量EUV光刻机( 二 ) 了解更多科技资讯尽在“圈聊科技”。今

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ASML公司也没有让人失望，目前已经联手IMEC公司，研发高NA EUV光刻机技术，这是下一代高分辨率EUV光刻机的技术，根据相关消息透露，目前ASML已经完成了相关测试，已经在初步完成了对于NXE：5000系列高NA EUV曝光系统的基本设计了，目前还在不断的完善技术，据悉在2022年就能够实现最终的商业化进程。
搭载ASML公司最新技术的光刻机，将会成为未来芯片制造的新风向标，这也是台积电和三星目前所需求的，虽然三星在3nm的工艺上也取得了很大的成就，搭载三星5nm工艺的高通骁龙888芯片，目前也已经正式商用了，但这远远不够，显然在更为高端的芯片制造工艺上，台积电再一次领先了。
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【官宣研发1nm工艺！中国芯片巨头采购大量EUV光刻机】任何技术的研发都需要一个过程，从理论成立到最终的实验论证，有可能需要耗费大量的时间，我们需要有足够的耐心，也相信台积电可以做的更好，在技术完全自主化之后，就不会再受到相关限制的影响了，可以和华为展开更多的合作了，对此你们有什么看法呢？

官宣研发1nm工艺！中国芯片巨头采购大量EUV光刻机( 二 )

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