55年前我国已有了光刻机
55年前我国已有了光刻机 , 为何如今处于落后状态?说明了一个真理2020-07-20 16:35:56 来源:小生谈历史导语:纵观最近的新闻热点 , 围绕着科技方面的内容 , 关键词主要是:光刻机、ASML 。 根据相关的报道 , 目前ASML在光刻机地位处于霸主地位 , 而在这方面 , 我国光刻机技术明显落后于世界很多国家 , 这是为什么呢?55年前已经有了光刻机 , 为何会处于如此落后的地步呢?我想大家应该看一下我国在光刻机发展这些年来走过的路子 , 估计就会知道答案 , 当然这也说明了一个亘古不变的真理!
上个世纪50年代开始 , 对于电子半导体行业国家非常重视 , 并且着力开始发展 , 到了80年代 , 这方面的技术已经达到全球前列水平 , 只比美国差一点而已 。 根据史料介绍 , 1979年国内著名的两家专业厂家 , 即无线电十四厂以及上海元件五厂 , 可以直接复刻1974年英特尔公司的8080处理器 , 非常厉害 , 可见当时咱们国家在半导体技术方面非常先进 。 已经处于如此高的技术台 , 为何最后这项技术没落了呢?
我国光刻机技术的发展历程从上个世纪50年代开始 , 一直到80年代 , 我国一直重视科研 , 所以这段时间取得的成果非常多 , 除了有专业的研发团队以外 , 最重要的是这段时间国内有很多著名的科学家在一起发力 , 比如说钱三强、钱学森等人的力量在不断支持 , 两弹一星也是这个时间段发展起来的 。 1965年 , 由中科院研发的85型接触式光刻机出现了 , 这是一项非常重大的研究成果 , 意义非常重大 。 因为当时在世界上来说 , 能够研制出光刻机的国家寥寥无几 , 此技术已经接近世界顶尖水平 。 此后的20年时间 , 我国的光刻机技术也在不断发展中 。
当65型光刻机研制以后 , 相关的科研人员继续努力 , 不断改进 , 成果不俗 。 1977年 , GK3型的半自动光刻机被成功研制出来 , 标志着我国在这一技术的又一次升级 。 1978年 , GK4版本的光刻机又出来了 , 成果一路不断鐢升 。 1980年 , 清华大学又传出了喜讯 , 他们研制出第四代分布式投影光刻机 , 精度提高到三微米 , 据了解 , 这种精度已经达到了国际主流水平 。 而到了1985年 , 机电部又有好消息 , 他们已经研制出分布式光刻机的样机 。
从以上的光刻机发展历程来看 , 在1985年以前 , 我国在光刻机技术方面的发展是不断往前走的 , 并且已经接近了世界先进水平 , 技术一步一步靠前 , 按当时的发展速度来看 , 想达到世界顶尖水平只是时间的问题而已 。 原因也简单 , 当时世界上拥有如此高的光刻机技术 , 没有几个国家达到这样的水平 , 并且国内的科研力量比较集中 , 大家专注于光刻机技术的发展 。 而如今已经赶超我们的光刻机生产商 , 也就是ASML , 当时才成立 , 没有什么可比性 。我国光刻机领域没落的原因回到当下 , 我国光刻机已经严重落后 , 技术差距与国际相比 , 越来越大 , 根本无法回到当年的辉煌 , 这是为什么呢?究其原因 , 主要是上个世纪80年代我国在光刻机领域方面的重视程度有所改变 。
上个世纪80年代 , 改革开放开始了 , 很多国外的公司进驻我国 , 他们带来了先进的技术以及标准的管理制度 , 有很多国内的企业看到了国外企业生产的产品优势 , 于是不再自主研发芯片 , 而是选择了直接进口 , 原因也简单:价格低 , 而且质量好 。 从收益率来看 , 更加值得 。对于当时的企业来说 , 如何达到利润最大化就是他们考虑的重点 。 于是从成本的角度来考虑 , 他们不继续研发 , 而是选择了进口芯片为主 , 就这样 , 原本一直坚持光刻机研发的企业由主动变成了被动 , 时间一长 , 国内对于自主研发的芯片需求越来越少 , 而是选择了进口来补充 。 这对于光刻机研制公司来说 , 他们就处于无法生存的状态 , 为了活下来 , 他们选择了转产或者转型 , 不再涉及到光刻机领域 。
我们再来看一下技术层面的问题 , 上个世纪90年代 , 光刻机领域陷入了193纳米的技术问题上 , 一直无法取得突破 , 这直接导致了更多企业对于光刻机失去了信心 。 而令大家没有想到的是 , 1996年 , 以美国为首的西方国家竟然发布了一份特殊的公约 , 名为《瓦森纳协定》 , 涉及到技术出口开始进行严管 , 借此协定 , 很多西方国家对中国进行技术封锁 , 这让一直在光刻机领域无法得到突破的局面变得更加尴尬 , 更加被动 。 如此看来 , 光刻机之所以走向没落 , 原因主要有三:一是经济发展的原因 。 二是改革开放国外企业过来竞争的结果 。 三是西方国家对我国进行技术上的壁垒 。
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