光学|奥普光电：Caf2光学晶体可根据实际需求进行二次开发用于光刻机的光学系统中
上证报中国证券网讯 奥普光电7月3日在互动平台回答投资者提问时表示 ， 公司生产的Caf2光学晶体应用范围较广 ， 客户可根据实际需求进行二次开发 ， 产品可以用于光刻机的光学系统中 。
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【光学|奥普光电：Caf2光学晶体可根据实际需求进行二次开发用于光刻机的光学系统中】
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