潮黑社|不用EUV也能实现5nm量产？别再自欺欺人，国内利用这一方案
文|潮黑
众所周知 ， 在半导体领域 ， 我国一直都处于一个相对比较落后的状态 。 相对于当下已经达到7nm、5nm的技术 ， 目前国内依然在14nm左右徘徊 ， 中间的差距可想而知 。 然而我国在整个世界范围内又是芯片领域最大的消费市场 ， 此前有相关数据统计 ， 在全球的芯片市场当中 ， 我国就占据了将近32%左右 。 这样一块肥肉 ， 或许在很多半导体领域的巨头看都是不能放弃的一块市场 。
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而在国内的芯片市场当中 ， 国内自主研发和生产的芯片仅仅只占据了总份量的16% ， 其余的都需要通过进口来填补市场上的空缺 。 而每年我国花费在进口芯片上的资金就超过了2000亿美元 ， 这样一笔巨额的资金就这样流入到了海外市场上 。 目前在国内半导体领域当中首屈一指的恐怕就是中芯国际 ， 不过由于缺乏相应的光刻机 ， 因此中芯国际没有办法在芯片领域做出更强的突破 ， 到现在为止也不过才实现了14纳米制程工艺的量产 。
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作为国人 ， 原本在这种情况下 ， 应该正视这样的问题 。 但是近日在网络当中却突然爆出了一些让人觉得匪夷所思的消息 ， 有消息称目前国内所使用的DUV光刻机完全能够实现5nm的量产 ， 只不过需要采用一些独特的措施而已 。 准确的来说是要通过一种叫n+1的方案 ， 这种方案就是基于现在光刻机的基础之上 ， 通过一种比较另类的方式对于精度更高的芯片进行量产 。
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从理论上来看 ， 这的确是一种有效的方式 ， 而且也确实能够达到量产的要求 。 不过 ， 只不过是一种非常不成熟的技术而已 ， 这在其他国家很多年以前就已经彻底被淘汰 。 这种技术具有两个劣势 ， 第一就是对原材料的消耗度是很高 ， 造成的结果就是废品率过高 。 毫不夸张地讲 ， 用这样的技术 ， 如果生产100个芯片 ， 最后很有可能会造成90个芯片的无法使用 ， 这就意味着对于大量原材料严重的浪费 。
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【潮黑社|不用EUV也能实现5nm量产？别再自欺欺人，国内利用这一方案】其次 ， 这种技术生产成本更高 ， 原本适用EUV光刻机只需要经过简单的几个步骤就能够实现 。 但如果采用这种技术的话 ， 很有可能会来来回回重复使用好几个技术 。 不仅在技术难度上大幅度提升 ， 而且这些技术并不是很成熟 ， 会浪费大量的时间和精力 。 这样来看 ， 这种可以完成量产的说法只是在自欺欺人罢了 。
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