打破日美垄断 国产半导体技术取得重大突破
作为半导体卡脖子的技术之一 ， 很多人只知道光刻机 ， 却不知道光刻胶的重要性 ， 这个市场也是被日本及美国公司垄断 ， TOP5厂商占了全球85%的份额 。
国产光刻胶此前只能用于低端工艺生产线中 ， 能做到G线（436nm）、I线（365nm）水平 ， 目前主要在用的ArF光刻胶还是靠进口 ， EUV光刻胶目前还没有公司能生产 ， 基本上都控制在日本公司手中 。
不过EUV光刻胶也不是急需的 ， 因为国内目前还没有EUV工艺量产 ， 193nm的ArF光刻胶更加重要 ， 目前国内有多家公司正在公关中 ， 这种光刻胶可以用于28nm到7nm工艺的先进工艺 。
今天 ， 南大光电在互动平台表示 ， 公司的ArF光刻胶正在按计划进行客户测试 ， 这意味着国内的ArF光刻胶技术取得了重要突破 ， 从研发开始走向生产 。
【打破日美垄断 国产半导体技术取得重大突破】根据南大光电公司之前的消息 ， 公司于2017年开始研发“193nm光刻胶项目” ， 已获得国家“02专项”的相关项目立项 ， 公司计划通过3年的建设、投产及实现销售 ， 达到年产25吨193nm（ArF干式和浸没式）光刻胶产品的生产规模 ， 产品将满足集成电路行业需求标准 。
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