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华为@高端光刻机有多难，为何中国造不出？工程师：一个零件打磨10年( 二 )


在这些零部件当中技术难度最大的就是光源、镜头、淹模板、能量控制器以及控制台 。
比如比如镜头必须要求纯度非常高 ， 它是利用透镜的光学原理 ， 将掩膜版上的电路图按比例缩小 ， 再用光源映射的硅片上 ， 光在多次投射中会产生光学误差 ， 在这个过程中要控制这个误差 ， 所以精度要求非常高 。
再比如光源 ， 光刻机需要体积小、功率高、稳定性强的光源 ， 为了提供这样的光源 ， 就必须质量很好的能量控制器 ， 电源要稳定、功率要足够大 ， 否则光源发生器没办法稳定工作 。
正因为技术非常高 ， 所以目前连ASML本身有很多零部件他们自己也无法生产 ， 很多高端零部件都是从美国、德国、日本等国家进口的 ， 比如目前ASML的镜头是由德国的蔡司提供 ， 电源是由美国的一家公司提供 。
当然 ， 光刻机技术到底有多难 ， 单纯从这些描述可能大家没法理解 ， 我们可以借用美国一个工程师曾经说过的一句话来形容 ，
曾经有一位美国工程师是这样评价光刻机的 ， 他说：“光刻机的一个小零件 ， 工程师就需要调整高达十年之久 ， 就连尺寸的调整就要高达百万次以上 。
由此可见 ， 作为目前地球上最顶尖的设备之一 ， 光刻机技术不是一时半载就能够制造出来的 ， 它的制造需要有长时间的技术积累和沉淀 ， 同时需要有多个国家和企业的共同合作才有可能完整 。
而目前西方一些国家不仅在光刻机整机上对我进行技术封锁 ， 甚至连跟光各级有关的一些零部件也对我国进行技术封锁 ， 也正因为如此 ， 光刻机很多核心零部件我们都必须自己去研究 ， 这些核心零部件的研究有可能需要反反复复的实验 ， 本可能需要几万次几十万次 ， 甚至上百万字的打磨才有可能验证成功 。
也正因为如此 ， 所以我国光刻机的研发进度相对来说是比较慢的 ， 这也导致我国目前光刻机跟荷兰的ASML有很大的差距 。
虽然最近几年我国也加大对光刻机的研发力度 ， 而且也取得了一些喜人的成果 ， 目前包括清华大学、武汉光电研究所等一些研究团队都取得了一些喜人的研究成果 ， 但是光刻机是一个复杂的工程 ， 短期之内不是靠一两个研究的够就能够研究出高端光刻机的 。
所以我国高端光刻机还有很长的路要走 ， 想要缩小跟荷兰ASML的差距 ， 不仅需要我国各大研究机构投入更大的精力 ， 同时也需要我国在产业扶持上 ， 进一步加大对光刻机以及新相关产业链的扶持 ， 只有大家通力合作才有可能尽早研究出我国拥有独立自主产权的高端光刻机 ， 从而摆脱西方技术封锁 。


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