打破美日垄断,5G投资热潮下中国通信芯片如何绝地突围( 六 )
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通信芯片的材料格局:第三代半导体材料登场
第一代半导体材料主要是指硅(Si)、锗(Ge)元素半导体材料 。
其在国际信息产业技术中的各类分立器件、极为普遍的集成电路、电子信息网络工程、电脑、手机、电视、航空航天、各类军事工程和迅速发展的新能源、硅光伏产业中都得到了极为广泛的应用 。
第二代半导体材料主要是指化合物半导体材料 , 如砷化镓(GaAs)、锑化铟(InSb) 。
细分来看 , 有GaAsAl、GaAsP等三元化合物半导体;Ge-Si、GaAs-GaP等固溶体半导体;非晶硅、玻璃态氧化物等玻璃半导体(又称非晶态半导体);酞菁、酞菁铜、聚丙烯腈等有机半导体 。
第三代半导体材料主要以碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)、氧化锌(ZnO)、金刚石、氮化铝(AlN)为代表的宽禁带(Eg》2.3eV)半导体材料 。
其主要应用为半导体照明、电力电子器件、激光器和探测器等领域 , 每个领域产业成熟度各不相同 。 在前沿研究领域 , 宽禁带半导体还处于实验室研发阶段 。
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第一代半导体的材料基础都是硅基 , 但
面对分立器件和应用极为普遍的集成电路越来越高的性能要求 , 针对元素属性 , 添加部分稀有元素成为化合物材料基 , 成为了发展趋势 。
但硅基半导体未来不会被化合物半导体的发展完全替代 , 它仍然作为大量基础元器件支撑中低端的底层产品和部分基础产品 , 而其他具有特殊要求的产品需要再使用化合物进行 。
比如第三代半导体具有较大的禁带宽度和较高的击穿电压 , 耐压和耐高温性能良好 , 所以可用于制造高频、高温、大功率的射频器件和其他有需求的器件 。
在第三代半导体中 , 碳化硅(SiC)和氮化镓(GaN)从各类化合物中脱颖而出 , 成为第三代半导体的基石 。
碳化硅(SiC)由于化学性能稳定、导热系数高、热膨胀系数小、耐磨性能好 , 除作磨料用外 , 还有很多其他用途 。
氮化镓(GaN)材料的研究与应用是目前全球半导体研究的前沿和热点 , 是研制微电子器件、光电子器件的新型半导体材料 , 在光电子、高温大功率器件和高频微波器件应用方面有着广阔的前景 。
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氮化镓(GaN)也是5G通信芯片及其相关器件的当下最理想材料 。
在汽车方面 , 氮化镓(GaN)可应用于高性能车规级芯片 , 小尺寸高温可靠性车规级芯片;通信塔方面 , 可应用于高频滤蜂窝/DAS芯片;基站方面 , 可应用于高性能基站芯片和高频率通信芯片 。
从氮化镓(GaN)、砷化镓(GaAs)和LDMOS(横向扩散金属氧化物半导体)构成的功率频谱使用范围中可以看到 , 从功率方面 , LDMOS由于承载能力有限 , 位于整个使用范围的下游 ,
在高频率和高功率方面 , 氮化镓(GaN)具备得天独厚的优势 , 而未来雷达、航空、卫星通信方面 , 砷化镓(GaAs)将成为最优解 。
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