CPU处理器|上海微电子年底前推出28nm光刻机？很残酷( 二 )
不过WP7贴吧用户@jinshandage 表示，之前有内部前员工爆料，由于内部管理问题，上微老的骨干基本走光 。新来的研发人员工资极低，很多在那边也混2年经验就走 。10年研发费用不足6亿，基本没有老员工 。本身就一个国资企业，那些厂买他家的低端光刻机就是指标，都不用的 。他们家的28nm光刻机今年交付的消息看看就好，当不了真 。估计今明两年28nm的都出不来光刻机突破的话，还是要看中科院以及一些其他科研机构，其次看这些科研企业，但是上海微电子本身是没啥指望了 。
一位自称在十几年前读博士时就有做02专项的网友称：“28nm跟90nm光刻设备之间的区别很多，四大子系统都不一样 。光源功率变大，光学系统数值孔径变大，增加浸没单元，运动平台速度更快 。目前运动平台做得比较好，其他的最多到样机状态，整机更没有了，差得还挺远 。十几年前我做02专项，那个时候投入是不足的 。到如今，只能说资金投入早已经跟上，现在无论上海微电子还是各子系统企业都不缺钱，甚至已经不敢再拿钱了 。很多专项投入资金，根本就没有动过 。设备研发迭代跟FAB厂做工艺试错还是有区别的 。一个人拍两个月脑袋就可以搞五六代样机去试错，但其实连积累数据的意义都没有 。有些关键点搞不清楚，试错就是浪费时间 。”
另外值得注意的是，自去年华为被美国实施第二轮制裁，使得华为自研芯片无法制造之后，业内就一直有传闻称华为在自建半导体产线，并已开始研发半导体产线所必须的关键设备——光刻机 。
此前曝光的招聘信息也显示，华为正在招募光刻机研发人才 。本月初，华为旗下的哈勃投资入股了国内高端准分子激光技术厂商科益虹源，似乎也正是为了加码布局光刻机领域的研发 。
【CPU处理器|上海微电子年底前推出28nm光刻机？很残酷】
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