光刻机|售价逼近3亿美元 ASML第二代EUV光刻机跳票3年
ASML是全球唯一一家量产EUV光刻机的 ， 台积电、三星、Intel的7nm、5nm及未来的3nm、2nm都要依赖EUV光刻机 ， 单台售价超过1亿美元 ， 成本极高 。
ASML的EUV光刻机目前使用的还是第一代 ， EUV光源波长在13.5nm左右 ， 物镜的NA数值孔径是0.33 ， 发展了一系列型号 。
其中最早量产出厂的是NXE：3400B ， 产能有限 ， 一小时生产晶圆是125PWH ， 目前的出货主力是NXE:3400C ， 产能提升到135WPH ， 今年底还有NXE:3600D系列出货 ， 产能再进一步提升到160WPH ， 不过价格也会提升到1.45亿美元了 。
现在第一代的EUV光刻机NA指标太低 ， 第二代EUV光刻机会是N XE：5000系列 ， 其物镜的NA将提升到0.55 ， 进一步提高光刻精度 ， 半导体工艺突破1nm工艺就要靠下一代光刻机了 。
然而NA 0.55的二代EUV光刻机没那么容易 ， 原本预计最快2023年问世 ， 最新传闻称NXE:5000系列跳票 ， 而且一下子就跳票三年 ， 要到2025-2026年才有可能问世了 。
不仅时间延期 ， 二代EUV光刻机的价格也会大涨 ， 预计轻松达到3亿美元 ， 是现有EUV光刻机的2-3倍 ， 这就意味着未来的芯片工艺成本极其昂贵 ， 哪怕真能做到1nm工艺 ， 那高昂的成本也会让大多数公司退而却步 。
按照这样的发展下去 ， 估计1nm工艺的大客户就剩下苹果自己了 。
【光刻机|售价逼近3亿美元 ASML第二代EUV光刻机跳票3年】
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