ASML示好中国,美国突然宣布新规,国产光刻机形势危急
前段时间的芯片禁令暴露了很多的问题 , 把芯片的生产分成的三个阶段 , 分别是芯片设计 , 芯片制造和芯片封测 , 其中芯片封测最简单 , 芯片制造最困难 , 而我国目前只有华为掌握了5nm芯片的设计能力 , 而中国的芯片制造能力与荷兰的ASML相差了至少两代技术以上 。
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其实如果不是因为芯片禁令的话 , 恐怕我们都不知道光刻机这项技术原来是这么的重要 , 从这点我们应该也能感悟到 , 其实有很多的科技我国是比较落后的 , 只不过我们平常接触到的都是中国强大的科技领域 , 但这并不代表我们就真的全方面强大了 。
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我们还是有很多的不足的地方 , 不过光刻机确实是比较致命的一个科技领域 , 因为现代科技当中芯片的作用是至关重要的 , 而光刻机作为唯一能够生产芯片的设备 , 重要性不言而喻 , 好在最近也是有好消息传来 , ASML态度暧昧示好中国 。
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然而祸福相依 , 好消息还未开心多久 , 美国突然宣布新规 , 国产光刻机再次形势危急 。 一开始是ASML非常重视中国是市场 , 荷兰方面在长时间和美国的拉锯之后 , ASML终于表明可以不需要美国的许可就能向中国出口光刻机 。
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虽然出口的不是EUV光刻机 , 但是DUV光刻机同样对我们来说是裨益良多的 。 然而美国紧接着宣布新规 , 一方面是美国半导体协会和美国半导体企业一起合力推出“半导体十年计划” , 目的是为了维持美在半导体行业的领先地位 。
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【ASML示好中国,美国突然宣布新规,国产光刻机形势危急】同时在人工智能、高级无线通信、量子计算等高端前沿技术 , 美国同样信心满满 , 从这项计划也能看得出 , 因为我国已经开始布局半导体行业了 , 但是美国显然是不希望我国的实力能够后来居上的 , 他们也是想要从整个半导体行业上始终压制着我们 , 我们一定不能让他们得逞!
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