|全球近40国“入局”!中国已购买700台光刻机,美国限制无效

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光刻机 , 是整个芯片生产制造环节最核心的设备 , 研发难度极高 。 在全球光刻机市场 , 日本的尼康、佳能和荷兰的ASML , 便占据了市场90%以上的份额 , 而最高级的EUV(极紫外光)技术 , 更是只有ASML一家掌握 。 这便造就了一个不可忽视的现实——由于尚不可实现国产替代 , EUV光刻机已成为我国国产芯片制程迈向国际领先水平的关键制约因素 。
近40个国家“入局” , 光刻机研发难度堪比原子弹!
也许有人会说 , 既然是制约因素 , 尽力攻破不就可以了?但在高科技的研发竞争中 , 没有近路可抄 , 更没有弯道超车 。 在探讨中国离国产EUV光刻机还有多远时 , 先来了解一下EUV光刻机的研发难度 。
据悉 , EUV光刻机是光刻机在发展过程中的第五代产品 , 由于采用了极紫外线 , 它的最小工业节点到了22nm-7nm , 称得上是世界上最先进的光刻机设备 , 其技术的复杂和高难度 , 贯穿了基础研究、技术攻关和系统集成 , 真正的一条路难到底 。
就连光刻机巨头ASML , 也在技术攻关的路上 , 先后遇到光源、抗蚀剂和防护膜三大难题 。 更令研发人员头疼的是 , 在EUV光刻机的研发过程中 , 过去的技术积累在这些难题面前很难派上用场 , 一切都需从零开始 。 不夸张地说 , EUV光刻技术的研发难度从某些角度来看 , 已超过了原子弹 。
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技术上宛如攀登高峰 , 研发费用也十分昂贵 。 根据ASML公开的数据 , 按照每台EUV光刻机售价1.25亿美元来计算 , 该公司每年最多销售100台 , 销售额最多125亿美元 , 然而近20年来 , EUV光刻技术的研发总费用总已超千亿元 。
总的来说 , 攻克EUV光刻机的难度系数极高 , 虽然近20年来 , 包括美国、欧洲、日本及韩国在内近40个国家都已“入局” , 想要占领EUV光刻技术这个芯片制造环节的制高点 , 但截至目前 , 只有美国稍稍领先 。
不受美国限制!中国已购700台光刻机
回归到中国攻克光刻机的问题上 , 虽起步较晚 , 但国产光刻机的进程已在逐步推进 。 相关媒体还报道称 , 在2021年 , 上海微电子便有望交付首台28nm光刻机 , 若事件属实 , 我国对进口光刻机的依赖将逐渐减少 , 国产芯片的制造也将被大大推动 。
企业在努力 , 国家层面也在发力 。 早在2008年 , 我国便已开始攻关国产光刻机 , 为此还成立了“极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项”(简称02专项) , 投入了大量的人力物力;到了2020年9月16日 , 中科院还表示 , 将对光刻机及一些关键的核心技术、关键原材料等进行布局 , 集中全院力量来攻克这些目前最受关注的重点技术 。
可以说 , 虽然国内的芯片生产暂时仍需向ASML购买光刻机 , 但国产光刻机也在不停追赶中 。
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值得一提的是 , 早2018年初 , 中芯国际便向ASML订购了一台EUV光刻机 , 按照计划 , 2019年年底便需交付 , 2020年便可完成安装 , 然而由于美国的阻挠 , 这台EUV光刻机至今依旧是“未出库”状态 。
幸运的是 , 虽然EUV光刻机“禁售” , 但DUV光刻机的对华出口并不受限 , 据了解 , DUV光刻机可生产7nm及以上制程芯片 , 可满足现阶段国内企业芯片生产的需求 。 根据ASML全球副总裁沈波透露:截至当前 , 中国已经购买了700多台ASML光刻机的装机;2020年二、三季度 , ASML发往中国的光刻机台数也超过了全球总台数的20% 。
ASML方面还表示 , 中国将成为全球最大的成熟制程芯片市场 , 该公司将加快在中国市场的投资布局 , 运用领先的光刻技术帮助中国客户提高芯片制造性能、降低成本 。
文 | 李银苏 题 | 黄紫镓 图 | 饶建宁 审 | 刘苏林


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