半导体行业观察|芯片的未来,靠这些技术了
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除了先进制程之外 , 先进封装也成为延续摩尔定律的关键技术 , 像是2.5D、3D 和Chiplets 等技术在近年来成为半导体产业的热门议题 。 究竟 , 先进封装是如何在延续摩尔定律上扮演关键角色?而2.5D、3D 和Chiplets 等封装技术又有何特点?
人工智能(AI)、车联网、5G 等应用相继兴起 , 且皆须使用到高速运算、高速传输、低延迟、低耗能的先进功能芯片;然而 , 随着运算需求呈倍数成长 , 究竟要如何延续摩尔定律 , 成为半导体产业的一大挑战 。
芯片微缩愈加困难 , 异构整合由此而生
换言之 , 半导体先进制程纷纷迈入了7 纳米、5 纳米 , 接着开始朝3 纳米和2 纳米迈进 , 电晶体大小也因此不断接近原子的物理体积限制 , 电子及物理的限制也让先进制程的持续微缩与升级难度越来越高 。
也因此 , 半导体产业除了持续发展先进制程之外 , 也「山不转路转」地开始找寻其他既能让芯片维持小体积 , 同时又保有高效能的方式;而芯片的布局设计 , 遂成为延续摩尔定律的新解方 , 异构整合(Heterogeneous Integration Design Architecture System , HIDAS)概念便应运而生 , 同时成为IC 芯片的创新动能 。
所谓的异构整合 , 广义而言 , 就是将两种不同的芯片 , 例如记忆体+逻辑芯片、光电+电子元件等 , 透过封装、3D 堆叠等技术整合在一起 。 换句话说 , 将两种不同制程、不同性质的芯片整合在一起 , 都可称为是异构整合 。
因为应用市场更加的多元 , 每项产品的成本、性能和目标族群都不同 , 因此所需的异构整合技术也不尽相同 , 市场分众化趋势逐渐浮现 。 为此 , IC 代工、制造及半导体设备业者纷纷投入异构整合发展 , 2.5D、3D 封装、Chiplets 等现今热门的封装技术 , 便是基于异构整合的想法 , 如雨后春笋般浮现 。
2.5D 封装有效降低芯片生产成本
过往要将芯片整合在一起 , 大多使用系统单封装(System in a Package , SiP)技术 , 像是PiP(Package in Package)封装、PoP(Package on Package)封装等 。 然而 , 随着智能手机、AIoT 等应用 , 不仅需要更高的性能 , 还要保持小体积、低功耗 , 在这样的情况下 , 必须想办法将更多的芯片堆积起来使体积再缩小 , 因此 , 目前封装技术除了原有的SiP 之外 , 也纷纷朝向立体封装技术发展 。
立体封装概略来说 , 意即直接使用硅晶圆制作的「硅中介板」(Silicon interposer) , 而不使用以往塑胶制作的「导线载板」 , 将数个功能不同的芯片 , 直接封装成一个具更高效能的芯片 。 换言之 , 就是朝着芯片叠高的方式 , 在硅上面不断叠加硅芯片 , 改善制程成本及物理限制 , 让摩尔定律得以继续实现 。
而立体封装较为人熟知的是2.5D 与3D 封装 , 这边先从2.5D 封装谈起 。 所谓的2.5D 封装 , 主要的概念是将处理器、记忆体或是其他的芯片 , 并列排在硅中介板(Silicon Interposer)上 , 先经由微凸块(Micro Bump)连结 , 让硅中介板之内金属线可连接不同芯片的电子讯号;接着再透过硅穿孔(TSV)来连结下方的金属凸块(Solder Bump) , 再经由导线载板连结外部金属球 , 实现芯片、芯片与封装基板之间更紧密的互连 。
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2.5D和3D封装是热门的立体封装技术 。 (Source:ANSYS)
目前为人所熟知的2.5D 封装技术 , 不外乎是台积电的CoWoS 。 CoWoS 技术概念 , 简单来说是先将半导体芯片(像是处理器、记忆体等) , 一同放在硅中介层上 , 再透过Chip on Wafer(CoW)的封装制程连接至底层基板上 。 换言之 , 也就是先将芯片通过Chip on Wafer(CoW)的封装制程连接至硅晶圆 , 再把CoW 芯片与基板连接 , 整合成CoWoS;利用这种封装模式 , 使得多颗芯片可以封装到一起 , 透过Si Interposer 互联 , 达到了封装体积小 , 功耗低 , 引脚少的效果 。
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台积电CoWos封装技术概念 。 (Source:台积电)
除了CoWos 外 , 扇出型晶圆级封装也可归为2.5D 封装的一种方式 。 扇出型晶圆级封装技术的原理 , 是从半导体裸晶的端点上 , 拉出需要的电路至重分布层(Redistribution Layer) , 进而形成封装 。 因此不需封装载板 , 不用打线(Wire)、凸块(Bump) , 能够降低30% 的生产成本 , 也让芯片更薄 。 同时也让芯片面积减少许多 , 也可取代成本较高的直通硅晶穿孔 , 达到透过封装技术整合不同元件功能的目标 。
当然 , 立体封装技术不只有2.5D , 还有3D 封装 。 那么 , 两者之间的差别究竟为何 , 而3D 封装又有半导体业者正在采用?
相较于2.5D 封装 , 3D 封装的原理是在芯片制作电晶体(CMOS)结构 , 并且直接使用硅穿孔来连结上下不同芯片的电子讯号 , 以直接将记忆体或其他芯片垂直堆叠在上面 。 此项封装最大的技术挑战便是 , 要在芯片内直接制作硅穿孔困难度极高 , 不过 , 由于高效能运算、人工智能等应用兴起 , 加上TSV 技术愈来愈成熟 , 可以看到越来越多的CPU、GPU 和记忆体开始采用3D 封装 。
3D封装是直接将芯片堆叠起来 。 (Source:英特尔)
台积电、英特尔积极发展3D 封装技术
在3D 封装上 , 英特尔(Intel)和台积电都有各自的技术 。 英特尔采用的是「Foveros」的3D 封装技术 , 使用异构堆叠逻辑处理运算 , 可以把各个逻辑芯片堆栈一起 。 也就是说 , 首度把芯片堆叠从传统的被动硅中介层与堆叠记忆体 , 扩展到高效能逻辑产品 , 如CPU、绘图与AI 处理器等 。 以往堆叠仅用于记忆体 , 现在采用异构堆叠于堆叠以往仅用于记忆体 , 现在采用异构堆叠 , 让记忆体及运算芯片能以不同组合堆叠 。
另外 , 英特尔还研发3 项全新技术 , 分别为Co-EMIB、ODI 和MDIO 。 Co-EMIB 能连接更高的运算性能和能力 , 并能够让两个或多个Foveros 元件互连 , 设计人员还能够以非常高的频宽和非常低的功耗连接模拟器、记忆体和其他模组 。 ODI 技术则为封装中小芯片之间的全方位互连通讯提供了更大的灵活性 。 顶部芯片可以像EMIB 技术一样与其他小芯片进行通讯 , 同时还可以像Foveros 技术一样 , 通过硅通孔(TSV)与下面的底部裸片进行垂直通讯 。
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英特尔Foveros技术概念 。 (Source:英特尔)
同时 , 该技术还利用大的垂直通孔直接从封装基板向顶部裸片供电 , 这种大通孔比传统的硅通孔大得多 , 其电阻更低 , 因而可提供更稳定的电力传输;并透过堆叠实现更高频宽和更低延迟 。 此一方法减少基底芯片中所需的硅通孔数量 , 为主动元件释放了更多的面积 , 优化裸片尺寸 。
而台积电 , 则是提出「3D 多芯片与系统整合芯片」(SoIC)的整合方案 。 此项系统整合芯片解决方案将不同尺寸、制程技术 , 以及材料的已知良好裸晶直接堆叠在一起 。
台积电提到 , 相较于传统使用微凸块的3D 积体电路解决方案 , 此一系统整合芯片的凸块密度与速度高出数倍 , 同时大幅减少功耗 。 此外 , 系统整合芯片是前段制程整合解决方案 , 在封装之前连结两个或更多的裸晶;因此 , 系统整合芯片组能够利用该公司的InFO 或CoWoS 的后端先进封装技术来进一步整合其他芯片 , 打造一个强大的「3D×3D」系统级解决方案 。
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此外 , 台积电亦推出3DFabric , 将快速成长的3DIC 系统整合解决方案统合起来 , 提供更好的灵活性 , 透过稳固的芯片互连打造出强大的系统 。 藉由不同的选项进行前段芯片堆叠与后段封装 , 3DFabric 协助客户将多个逻辑芯片连结在一起 , 甚至串联高频宽记忆体(HBM)或异构小芯片 , 例如类比、输入/输出 , 以及射频模组 。 3DFabric 能够结合后段3D 与前段3D 技术的解决方案 , 并能与电晶体微缩互补 , 持续提升系统效能与功能性 , 缩小尺寸外观 , 并且加快产品上市时程 。
在介绍完2.5D 和3D 之后 , 近来还有Chiplets 也是半导体产业热门的先进封装技术之一;最后 , 就来简单说明Chiplets 的特性和优势 。
除了2.5D 和3D 封装之外 , Chiplets 也是备受关注的技术之一 。 由于电子终端产品朝向高整合趋势发展 , 对于高效能芯片需求持续增加 , 但随着摩尔定律逐渐趋缓 , 在持续提升产品性能过程中 , 如果为了整合新功能芯片模组而增大芯片面积 , 将会面临成本提高和低良率问题 。 因此 , Chiplets 成为半导体产业因摩尔定律面临瓶颈所衍生的技术替代方案 。
Chiplets就像拼图一样 , 把小芯片组成大芯片
Chiplets 的概念最早源于1970 年代诞生的多芯片模组 , 其原理大致而言 , 即是由多个同质、异构等较小的芯片组成大芯片 , 也就是从原来设计在同一个SoC 中的芯片 , 被分拆成许多不同的小芯片分开制造再加以封装或组装 , 故称此分拆之芯片为小芯片Chiplets 。
由于先进制程成本急速上升 , 不同于SoC 设计方式 , 将大尺寸的多核心的设计 , 分散到较小的小芯片 , 更能满足现今的高效能运算处理器需求;而弹性的设计方式不仅提升灵活性 , 也能有更好的良率及节省成本优势 , 并减少芯片设计时程 , 加速芯片Time to market 时间 。
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使用Chiplets 有三大好处 。 因为先进制程成本非常高昂 , 特别是模拟电路、I/O 等愈来愈难以随着制程技术缩小 , 而Chiplets 是将电路分割成独立的小芯片 , 并各自强化功能、制程技术及尺寸 , 最后整合在一起 , 以克服制程难以微缩的挑战 。 此外 , 基于Chiplets 还可以使用现有的成熟芯片降低开发和验证成本 。
目前已有许多半导体业者采用Chiplets 方式推出高效能产品 。 像是英特尔的Intel Stratix 10 GX 10M FPGA 便是采用Chiplets 设计 , 以达到更高的元件密度和容量 。 该产品是以现有的Intel Stratix 10 FPGA 架构及英特尔先进的嵌入式多芯片互连桥接(EMIB)技术为基础 , 运用了EMIB 技术融合两个高密度Intel Stratix 10 GX FPGA 核心逻辑芯片以及相应的I /O 单元 。 至于AMD 第二代EPYC 系列处理器也是如此 。 有别于第一代将Memory 与I/O 结合成14 纳米CPU 的Chiplet 方式 , 第二代是把I/O 与Memory 独立成一个芯片 , 并将7 纳米CPU 切成8 个Chiplets 进行组合 。
【半导体行业观察|芯片的未来,靠这些技术了】总而言之 , 过去的芯片效能都仰赖半导体制程的改进而提升 , 但随着元件尺寸越来越接近物理极限 , 芯片微缩难度越来越高 , 要保持小体积、高效能的芯片设计 , 半导体产业不仅持续发展先进制程 , 同时也朝芯片架构着手改进 , 让芯片从原先的单层 , 转向多层堆叠 。 也因如此 , 先进封装也成为改善摩尔定律的关键推手之一 , 在半导体产业中引领风骚 。
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