宝石流云|关于光刻机！中科院霸气回复来了！
芯片之痛
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伴随着9月15日的到来 ， 华为从各大渠道获取高精度半导体芯片的渠道都被封堵上了 ， 而在这种情况之下 ， 打造出一套专属于我国自己的高精度半导体产业链则成为了助力华为芯片“破局”的关键所在 。
因此 ， 目前国内企业纷纷在发力半导体产业链上的各个环节 ， 多方联通 ， 希望在最短时间内完成对国产高精度半导体产业链的搭建 。
而在国产半导体产业链的搭建过程中 ， 最为重要的一个环节应该就是高精度光刻机的突破了 ， 因为到目前为止我国最高水准的商用光刻机精度仅仅是停留在22nm ， 相较于国际一流水准的5nm精度还有较大差距 。
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因此 ， 从2019年华为芯片危机出现后 ， 光刻机这个原本大众不易接触到的行业特有名词也逐渐的被大家所认识 ， 一时间外界对于我国在高精度光刻机领域的发展也是担忧起来 。
因为 ， 自从2018年全球顶级光刻机制造公司ASML停止向我国出口7nm光刻机后 ， 我国的高精度芯片代工之路似乎就遇到了瓶颈 ， 另外 ， 就算是ASML公司最终出口给我国高精度光刻机 ， 但是受限于美国相关条例的约束 ， 华为公司也无法使用该光刻机来来实现高精度芯片的代工 ， 因为ASML公司的高精度光刻机中含有美国技术 。
扛起重任
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基于此 ， 我国打造自主品牌的高精度光刻机设备成为了必须成功的重任 ， 而在这个关键时刻 ， 9月16日中科院站了出来 ， 并且对于外界关于光刻机的担忧霸气回复道：中科院已经将光刻机这类对外依赖较大的关键设备列入科研清单 ， 未来将集中力量攻克这些重点技术 。
此消息一出 ， 也就意味着中科院已经表明态度要扛起研发自主品牌光刻机的重任了 ， 而事实上中科院作为我国最高的技术研究机构也的确有这个实力打造高精度光刻机 ， 因为早在今年7月份 ， 根据媒体报道中科院已经研究出了5nm超高精度激光光刻技术 。
那么这项技术的突破意味着什么呢？
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意味着我国在实验室阶段已经能够实现和ASML高精度光刻机同级别的光刻画线 ， 虽然距离正式商用还有一段距离要走 ， 但是至少我国的理论基础已经具备了 ， 这就是一个好的开端 。
任重道远
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当下我国光刻机技术在市场发展上的困境就像是多年前的蚀刻机技术 ， 彼时我国由于蚀刻机技术发展受限 ， 所以受到了外界进口的颇多阻碍 ， 甚至是把落后的蚀刻机以高价卖给我国企业 ， 但是通过我国企业和研究机构的努力 ， 当下我国在蚀刻机领域已经走向了世界一流水平 ， 而海外市场的阻碍也荡然无存 。
相信未来在高精度光刻机领域我国同样能够做到这一步 ， 届时将不再是我国企业去“高价求购” ， 而是海外企业争相来我国要求合作 。
为了实现这一目标 ， 未来中科院依旧是任重道远 。
总结
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当下美国通过发布实体清单想要阻碍我国相关技术领域的发展 ， 但是从中科院的发话可以了解到 ， 现如今中科院已经将美国给予的压力转化为了动力 ， 把美国限制的“实体清单” ， 改为了“科研清单” 。
说的直白一点就是 ， 你限制什么 ， 我就自己研发什么 。 所以现在的情况反而像极了美国在倒逼着我国科技水平的高速发展 。
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