光刻机|国产光刻机进度太慢，华为等不及了，还不如形成自己的IDM模式
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众所周知国外刻苦巨头多年一直进行技术禁运 ， 这也让一些高科技产品在国内迟迟不能突破 ， 不过现在变了很多 ， 当然断供的巨头还在断供 ， 是国内企业变了 ， 变得更加强大 ， 技术更先进 ， 当然最近一直被热议的高端光刻机还没有被突破 。 然而值得一提的是 ， 荷兰阿斯麦不卖给我们最先进的EUV光刻机 ， 上海微电子突破28nm ， 它立刻就低价甩卖28nm光刻机 ， 它还是没有明白 ， 等到我们实现自研 ， 完成生产销售内循环的时候就没有他们什么事了 。
相信大家都知道曾经的日企研发半导体 ， 技术领先世界 ， 并且获得上千款技术专利 。 他们制造出的DRAM芯片很快就拿下了80%的美市场份额 。 于是美通过各领域打压日半导体产业 ， 将日半导体产业拆分 ， 三星挖走了许多高端人才 ， 这也是后来的三星能够力压整个日半导体行业的原因 。 但美不会坐视三星做大 ， 二十多年前 ， 索罗斯做空韩元逼迫韩开放市场 ， 华尔街巨鳄趁机收购三星电子55%控制权 ， 三星从此成为了老美的“打工仔” ， 韩数十年的半导体成果被轻松收入囊中 。 如今轮到了华为 ， 然而华为在众多技术专利与备胎方案的支持下 ， 依然保持着高速发展的趋势 ， 即使试图拖垮华为 ， 但这也只是徒劳 。
由于国产光刻机还是不能用来生产手机芯片 ， 说实话现在的上海微电子可能在风口上了 ， 因为最近被华为“挖走”一些半导体人才 ， 听说老总气的要打电话投诉 。 还有个问题 ， 研究这么多年 ， 光刻机为什么还是90nm？要知道asml光刻机可达到5nm/7nm ， 而其它世界上大多数光刻机厂商也在10nm制程 。 而上海微电作为国内光刻机老大哥 ， 在2002年就开始起步 ， 到现在还在90nm/28nm ， 关键技术是因为浸润式光刻技术还没有突破 ， 如果能够迈过这个坎 ， 接下来就能突破10nm 。
【光刻机|国产光刻机进度太慢，华为等不及了，还不如形成自己的IDM模式】
从华为这个事上 ， 还是看出上海微电还是对科研人才有些不够大方 ， 要不然也不会很快被挖走 。 我们在技术已经是迟了一步 ， 在人才待遇上更是不能马虎 。 如果上海微电能够将成本向待遇上倾斜 ， 有足够理由相信国产光刻机到现在会走的更快 。 既然速度有点慢 ， 那只好由价高者接棒 ， 看来市场竞争还是有好处 ， 让人才理所应当获得报酬 ， 现在开始弥补人才短板 ， 只要还继续着眼于一个点钻研 ， 接下来就按下10nm ， 7nm乃至3nm光刻机的快进键 。
当然必须要正视美国发展科技多年 ， 在高科技领域我们还是有所差距 ， 追赶需要时间 。
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