芯片|台积电实现2nm芯片大突破!中芯国际也不甘落后,国产芯片迎来新机!

【芯片|台积电实现2nm芯片大突破!中芯国际也不甘落后,国产芯片迎来新机!】
芯片|台积电实现2nm芯片大突破!中芯国际也不甘落后,国产芯片迎来新机!
文章图片
芯片|台积电实现2nm芯片大突破!中芯国际也不甘落后,国产芯片迎来新机!
文章图片
芯片|台积电实现2nm芯片大突破!中芯国际也不甘落后,国产芯片迎来新机!
文章图片

这段时间 , 由于华为在芯片断供方面受到的xz , 不仅让我们大众看到了如今科技技术核心上的严峻性 , 更让相关企业寄希望于外来技术的幻想彻底破灭 。 可以说这一次在芯片上的问题 , 其实是国内抓紧时间奋力追赶的好时期 。
就在9月23日 , 有报道称台积电2nm制程研发实现重大突破 。 而在此前 , 就有消息传出台积电早在去年就对2nm芯片的研发 , 并且还有专门的研发团队 , 如今台积电2nm改采用全新的多桥通道场效晶体管架构 , 可以解决FinFET因制程微缩产生电流控制漏电的物理极限问题 , 研发进度超前 。 对于台积电在2nm芯片研发上的突破 , 已经让我们看到自己与行业中芯片制造大佬的差距 。
不过 , 国内的芯片制造公司并不是没有行动 。
在9月21日的报道中 , 当有客户问及中芯国际N+1、N+2等先进工艺的芯片量产进展时 , 中芯国际表示:第二代 FinFET N+1已进入客户导入阶段 , 预计有望在2020年底实现小批量试产 。
虽然根据业内人士的说法中芯国际在N+1、N+2工艺上相当于台积电10nm的芯片 , 基本可以被称为是台积电7nm芯片的“低配版” 。 虽然从这方面看 , 7nm和2nm仍然存在一定的差距 , 但也让大家看到了中芯国际在芯片研制的决心 。
不过很多网友还是有一些质疑 , 制造芯片不是需要用到光刻机吗?
中芯国际没有光刻机怎么继续研究下去 , 对于这个方面 , 中芯国际也有回应 , 表示这一次在N+1、N+2等先进工艺上暂时用不上光刻机设备 , 也就是说这一次中芯国际在这个项目上并不会受到光刻机的制约 。
这两天 , 中芯国际与台积电相继透露的消息中 , 也不禁让我们对于国产芯片的未来充满希望 , 并且这一次在芯片上的攻克 , 并不仅仅靠一个企业 。
此前 , 中科院院长白春礼在关于芯片上的讲话时就表达出国内将集中精力、集中物力、人力共同将芯片上遇到的那些难题一步步攻克掉 , 到那时候我们就会有真正属于自己的芯片上的核心技术了 。


    推荐阅读