台积电|台积电包揽全球50%光刻机，未来的高端芯片制造与大陆无关？( 三 )
但后来 ， 这台光刻机被扒出不是EUV光刻机 ， 而是DUV（深紫外光光刻机） ， 通常用来生产14nm芯片 ， 并不是台积电用来制造5nm芯片用的尖端产品 。
更讽刺的是 ， 2020年7月 ， 武汉弘芯半导体项目因资金供应存在问题项目可能停摆 。
而这台吸引了国人目光的光刻机 ， 也被抵押了 。
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面对技术封锁 ， 华为坐不住了 。
有消息显示 ， 华为正在着手研发自己的光刻机 ， 力求突围 。
社交媒体上关于华为光刻机专利的消息 ， 包括一项“通过光的移动 ， 而不是机械移动来实现光刻精度”的专利 ， 是一大技术创新 。
华为还在网上公开发布了光刻工艺工程师的职位 ， 并在全国范围内频繁挖人 。
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光刻机虽极其复杂且精妙 ， 却并非遥不可及 。
2018年8月份 ， 清华大学的研究团研发出了双工作台光刻机 ， 使得中国成为全球第2个具备开发双工作台光刻机的国家；
2019年4月 ， 武汉光电国家技术研究中心甘棕松团队采用远场光学的办法 ， 成功刻出9nm宽的线段；
2020年7月 ， 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所研发出了一种新型5nm超高精度激光光刻加工方法 。
美国半导体产业调查公司VLSI Research总裁里斯托·普哈卡（Risto Puhakka）认为 ， 针对EUV光刻机零部件的研究非常之多 ， 但他认为中国大陆仍未制造出可以开展生产的光刻机 。
“自主研发光刻机将是漫长的过程 。 我不是说不可能 ， 但这是一条漫长且艰难的道路 。 ”他说 。
小结
多亏了懂王的“制裁” ， 大陆企业方才梦中惊醒 ， 发现自己所处的位置已经快要看不见台积电的尾灯了 。
但如今才开始追赶 ， 可能会面临诸多的难题 ， 甚至有可能花很大力气研发出来了高端芯片 ， 市场却又被更高端、成本更低廉的芯片抢占 ， 于是连变现的空间都被压缩殆尽 。
“你已经积累了很多经验 ， 这些经验给你带来创新和降低成本的机会 ， 利用这个机会 ， 就会在技术和成本削减方面 ， 继续领先于你的竞争对手 。 ”
台积电创始人张忠谋认为 ， 不管是工艺 ， 还是成本 ， 都不是用很大的投资就很快可以获得的 ， 所以大陆需要时间才能赶上 。
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