中企动力官网|?国产芯片迎来曙光，中企攻克难题，不用荷兰光刻机，量产7nm
凭借着浸润式光刻机技术 ， ASML能够将193nm波长的光源 ， 等效至134nm ， 从大大提升工艺的精度 。通过该项技术 ， ASML在光刻机领域实现了反超 。而ASML接下来推出的EUV光刻机则更亮眼 ， 就算是3nm工艺也不在话下 。想要制作出更高精度的芯片 ， 就不得不依赖于EUV光刻机 。
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目前 ， EUV光刻机只有ASML一家能够生产 ， 且产量极低 。在十年时间里 ， ASML仅交付了57台EUV光刻机 。并且 ， ASML背后的两大股东——资本国际和美国贝莱德集团 ， 均为美国控股的企业 。各种原因 ， 使得我国企业想要买到一台ASML光刻机并不容易 。在2018年 ， 中芯国际才终于预定到了一台光刻机 。
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然而 ， 这台机器因为种种缘由至今仍为交付 。显然 ， 光刻机已经成为了我国芯片行业的“卡脖子”工程 。不过 ， 中芯国际并没有因此而放弃对于更高工艺的追求 。通过对技术的不断改进 ， 中芯国际已经突破了14nm工艺 。2017年末 ， 中芯国际建成了首条14nm生产线 ， 如今 ， 其14nm产能正逐步提升 。
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更值得注意的是 ， 中芯国际的N+1工艺也进展顺利 ， 即将与大众见面 。据中芯国际梁孟松介绍 ， 相较于14nm工艺芯片 ， N+1技术使得逻辑面积与SOC面积分别缩小63%与55% ， 能耗也下滑了57% 。从指标参数上来看 ， N+1工艺就相当于7nm 。
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有了7nm之后 ， 我国芯片制造业也就有了底气 ， 国产芯片有望迎来曙光 。根据新浪VR的消息 ， 在2021年时N+1有望实现小规模生产 。
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而在近期 ， 更是有中芯国际将于明年为低功率器件生产7nm芯片的消息传来 。而N+1的大规模量产预计将在2022到2023年实现 ， 令人十分期待 。
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同时 ， 中芯国际也将N+2工艺提升日程 。业界推测该工艺其实为5nm工艺 ， 并预计将在2025年时实现量产 。中芯国际的N+1工艺十分令人颇为欣慰 ， 不用荷兰光刻机 ， 我国也能做到量产7nm 。如此一来 ， 国产芯片将迎来曙光 ， 受到的外部制约将会更小 ， 进一步提高自主可控的程度 。
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目前 ， 台积电是业界最强芯片代工巨头 ， 不仅率先实现5nm量产 ， 还提前进入3nm领域 。而三星则因5nm良品率低 ， 而迟迟难以实现大规模量产 。英特尔的7nm也频频遇挫 ， 已经推迟至2022年 。由此可见 ， 更高精度的征程并不是一帆风顺 ， 中芯国际应该踏实做好每一步 。
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