华为|深谋远虑,原来华为4年前就申请光刻专利了
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深谋远虑 , 原来华为4年前就申请光刻专利了!近日 , 华为4年前光刻机专利出现了 , 专利名称是一种光刻设备和光刻系统 , 在国家知识产权局能够查询到 。
虽然具体的原理不太明白 , 但不得不说 , 任正非和华为的眼光真的非常高远!其实以前台积电7nm工艺遇到瓶颈时 , 华为派了300人团队入驻台积电 , 经过3个月的研究 , 终于帮台积电解决问题 。 这也是华为和台积电虽然目前暂时无法合作 , 但关系依旧友好的原因 。
再加上近期华为招聘光刻工程师 , 可以看出华为的IDM路线是走定了!华为目前的每一步 , 都是在逐个击破各个难题 , 早些年麒麟芯片没人看好 , 如今芯片领跑安卓手机芯片性能天梯图;后来有人说华为的屏幕不好 , 于是找京东方改良屏幕 , 如今已经无愧安卓旗舰!
芯片设计问题解决了 , 又遇到了芯片产能问题 , 台积电生产不了 , 就采用双芯片方案 , Mate 40系列也许会采用麒麟+天玑双芯片方案 , 这就很好地解决了800万芯片用完后的芯片供应问题 。
【华为|深谋远虑,原来华为4年前就申请光刻专利了】
现在华为从根本入手 , ASML区别对待 , 把原本承诺的光刻机订单 , 给三星和台积电 , 中芯国际光刻机订单被无限期延后 。 国产半导体产业中的关键一环——光刻机 , 是当下亟待解决的问题 , 所以华为才招聘光刻工程师啊!
本来以为华为是今年才决定进军光刻机的 , 谁也想不到4年前就已经着手研发了 , 真的让全球科技圈为之震惊 。 不得不说 , 华为真的有一套 , 一次次让人眼前一亮 , 我在这里再提个建议 , 华为和上海微电、华卓精科一起合作 , 努力在短时间内造出高端光刻机 , 我们用时间换成果 , 用时间换芯片 , 值!
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