王涛娱乐探|西方打压套路再次重演？，中国芯迎来转机！两大芯片制造设备突破
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导读：中国芯迎来转机！两大芯片制造设备突破 ， 西方打压套路再次重演？
众所周知 ， 自从我国的中兴通讯和华为公司被美国打压以后 ， 让我们马上就意识到了国产科技企业在半导体芯片领域发展的短板 ， 由于我国在半导体芯片领域起步较晚 ， 基础较为薄弱 ， 再加上国外技术的垄断 ， 所以我们一直都没能生产出属于我们自己的国产高端芯片来 ， 而唯一能拿得出手的也仅仅只是华为的海思麒麟芯片 ， 而华为也只是具备芯片的研发能力 ， 并不具备芯片的生产能力 ， 所以这就导致国产科技企业也很容易被卡脖子发展！
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长期以来 ， 国产科技企业生产所需的芯片 ， 几乎都是依赖于美国高通、英特尔等科技企业进口而来 ， 每年我国的芯片进口规模甚至超过了石油 ， 在众多的进口商品中位列第一；这也让国外的半导体芯片企业因此而赚得盆满钵满；在今年的5月份 ， 美国再次的颁布了针对华为的芯片新禁令 ， 这一次特朗普直接对准了我们的软肋 ， 想要切断华为的芯片供应链体系 ， 这也让华为将面临芯片断供的危机！
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在芯片制造领域 ， 我们和国外还有很大的差距 ， 但想要进行破局也不是没有可能 ， 芯片的生产制造过程非常的复杂 ， 可以说芯片的生产也是一个点石成金的过程 ， 从砂子到晶圆再到芯片 ， 这其中需要经历很多的复杂工艺；而在芯片的生产过程中 ， 不仅需要光刻机设备的支持 ， 而且我们还需要离子注入机以及蚀刻机等先进的设备来支持才行 ， 这三大设备可以说是光刻机生产过程中必须要用到的关键设备 ， 想要制造高端芯片 ， 这三个设备缺一不可！
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最近这两年 ， 随着越来越多的国产科技企业开始布局半导体芯片领域的研发 ， 让中国芯片也迎来了一定的转机；为了攻克芯片制造 ， 我国从多方面不断努力 ， 尤其是在生产芯片的三个关键设备领域 ， 经过国产科技企业的多年努力 ， 现在也都取得了一定成就和突破；据悉 ， 在蚀刻机领域 ， 中微半导体已经突破了5nm蚀刻机的研发 ， 并达到了国际领先水平 ， 而我们所研发出的先进蚀刻机也已经被用于台积电今年的5nm芯片生产中了 ， 在光刻机方面：上海微电子传来的消息显示：将于明年交付国内首台28nm浸没式光刻机 ， 可以说这也是国产光刻机所取得的重大突破；而在离子注入机方面：中国电子科技集团也已经宣布研发成功高能离子注入机 ， 并实现百万电子伏特高能离子加速技术的突破 ， 性能达到国际先进水平 。
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看到中国在芯片生产领域取得一个又一个的突破 ， 这也让我们感到非常的欣慰 ， 其中光刻机和高能离子注入机的成功 ， 都是从无到有的突破；这两大设备取得成功后 ， 中国在芯片制造领域也将再进一步 ， 但在这个关键时刻 ， 西方的打压套路也再次的重演；一直以来西方都一个惯用的打压套路 ， 那就是在我们没有时 ， 他们狮子大开口要价 ， 当我们取得技术攻克后 ， 他们就狠狠降价 ， 让我们的自主研发产品失去竞争力 ， 无法再继续前进 ， 而这一次中国在光刻机领域取得技术突破以后 ， 荷兰ASML公司的光刻机就进行了降价 ， 想要抢占国内市场 ， 让我们自主研发的产品失去竞争力 ， 无法再继续前进 ， 最终达到垄断市场 ， 但对这样的打压套路 ， 我们不能上当 ， 只有不断的加大自主研发的力度 ， 并一鼓作气 ， 取得最终的生产芯片的技术才行 ， 不知道对此你是怎么看的呢？欢迎留言！
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