打破|中科院传来好消息，5nm技术迎来新突破，或打破ASML限制
导语：中科院传来好消息，5nm技术迎来新突破，或打破ASML限制
在今年的5月15日，美国针对华为的制裁举措再次升级。这一次，美国商务部将修改产品出口规则，进一步限制半导体芯片对华为的供应，凡是用到美国技术、软硬件生产出的芯片，想要供应华为必须经过美国许可。美国这是要明令禁止使用美国技术及设备的企业，跟华为有合作往来。
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当美国这一禁令出台后，华为将面临着一大困局，台积电和中芯国际很有可能就会停止为华为代工芯片。毕竟，台积电和中芯国际也都用到了美国的技术。而且台积电和中芯国际也曾表态，未来有可能无法在为华为代工芯片。可以肯定的是，美国这次新规对华为带来的影响很大。
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当然了，美国再次对华为发起芯片制裁的新举措，是抓住了我国在芯片产业上的薄弱环节。根据2018年的数据显示，我国每年需要向美国等西方国家进口芯片达到3000亿美元，而制造芯片所需的先进光刻机也都是向荷兰ASML进口。
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不管是芯片还是制造芯片所需的先进光刻机，都是我国目前的薄弱环节。美国正是抓住了华为想要制造芯片就离不开台积电，而台积电又离不开美国的软件技术，因此为了限制华为及我国的发展，开始对华为实施芯片制裁举措。
不管是台积电最先进的5nm工艺，还是中芯国际即将量产的7nm工艺，在使用了包含美国技术标准后，都将无法在替华为代工芯片。这对华为来说是非常难受，看来国产芯片及制造之路还有很长一段路要走。然而，在这个时候，中科院传来了好消息！
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根据报道显示，中科院苏州纳米所研究院张子晹团队与国家纳米中心刘前合作，研发出全新超高精度5nm芯片直写技术。这是一种全新的三层堆叠薄膜结构，在无机钛膜光刻胶上采用双激光束交叠技术，通过精确控制密度和步长，实现最小5nm的特征线宽。
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简单来说，我国5nm芯片技术迎来了新突破，可能会绕开EUV光刻机技术量产芯片，或将打破ASML垄断的限制。大家应该都知道，荷兰的ASML是全球最大的光刻机生产厂家。其所生产的EUV光刻机，是高端芯片无法避开的制造设备。而我国中芯国际在花费1.2亿美元向ASML购买的EUV光刻机，在美国的阻挠下至今迟迟未能交付。
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足以可见，ASML的EUV光刻机对全世界芯片发展的重要性。恰巧的是，就在这个时候我国研究出了5nm芯片芯片的新技术，并可以绕开ASML的先进EUV光刻机技术。这就意味着，我国将初步的具备顶尖芯片的生产生产先进的5nm芯片的能力，而且还可以不使用美国等技术。
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可以说，这一次中科院发布的这项全新技术是历史性的，为我国未来的芯片产业迎来很大的希望。但是我国在芯片这条道路上要戒骄戒躁，目前张子晹团队研究出的5nm新技术还处于实验阶段，不过相信离真正的量产也不会太远了。
虽然今年将是5nm芯片的问世之年，在更高制作标准的工艺上，我国目前没有赶上，但是一旦该技术成熟，那么中国将彻底改变全球半导体产业链的现状，而华为则可能彻底摆脱美国的管控。
【 打破|中科院传来好消息，5nm技术迎来新突破，或打破ASML限制】大家对中科院的这项新技术有什么想说的？
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