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莫小帅|美方这下只能干瞪眼，又一则喜讯传来！国产光刻机迎来重大突破

谈起光刻机 ， 大家最先想起的是荷兰ASML光刻机 。 因为光刻机技术极其繁杂 ， 历经多年市场竞争 ， 由荷兰飞利浦公司发展而成的
ASML（阿斯麦）企业一家独大 。 最优秀的极紫外光刻机（EUV光刻机） ， 全球也仅有ASML一家企业能生产制造 ， 具有7nm芯片甚至5nm等芯片加工工艺 。
现如今华为和中芯最头疼的莫过无顶尖光刻机能用 ， 高档芯片依然得看台积电的面色 。 但是现在有喜讯传出 ， 国内顶尖光刻机很近了 。 近期
上海微电子公布将要产出第一台国内28nm光刻机 ， 同时已在研发下一代商品 。 尽管28nm确实间距一流的7nm、5nm顶尖光刻技术一些差别 ， 公布在2021年至2023年交货国内第一台28nm的immersion式光刻机 。 但这毫无疑问是个好兆头 。
尽管与当今荷兰ASML的7nm芯片制取工艺也有非常大的差别 ， 但也意味着在我国国产光刻机的飞越发展 。
据了解 ， 上海微电子是中国技术领跑的光刻机机器设备生产商 ， 从中低端选择市场细分 ， 中国市场份额达到80% 。 依据中国半导体研究会数据信息 ， 上海微电子在半导体机械设备商中排行第五 ， 是唯一入选的专业研究和销售光刻机的生产商 。 可以说 ， 上海微电子是“中国光刻机的大佬” 。
那么在光刻机机器设备上 ， 上海微电子有什么专利权值得一提
光刻机产品工件台可运用尺寸很小？这一发明出示了一种含有产品工件台移位装置的光刻机 。 选用本产品明确提出的一种产品工件台移位装置 ， 事先将曝光台、缆线台挪动至正中间部位 ， 就可以完成曝光台对干涉仪的绕行 ， 那样产品工件台的可运用尺寸获得扩大 ， 总体刚度获得大幅度提高 。
仍在担忧光刻机产品工件台清理不干净吗？这一专利有方法这个发明将台面除尘机构和台面清洁机构固定在主基板正下方 ， 运用产品工件台在水表面的挪动 ， 会让承片台积极挨近或触碰橱柜台面除灰组织和接触台面清理组织 ， 进行承片台的维护；另外 ， 运用导轨除尘机构抽吸两侧气浮导轨上的灰尘杂物 ， 完成对滑轨的维护 。 本产品清理效率高、工作人员劳动效率低、机器设备毁坏的隐患小 ， 进一步提高了机器设备的可信性 。
即能节约产品成本 ， 又能降低制成品芯片浪费这一发明明确提出一种光刻机对准方式 ， 其特点取决于：使用同轴指向灯源将制作在掩模版上的对准标记曝出在底材周边的非成品芯片地区 ， 且事后曝光场分布绕开该指向标识地区 ， 且事后曝光过程中根据鉴别上述指向标识开展对准 。 运用这一发明能够合理完成贴近接触式光刻机与投射光刻机的互用难题 ， 节约产品成本 ， 降低制成品芯片的消耗 。
【莫小帅|美方这下只能干瞪眼，又一则喜讯传来！国产光刻机迎来重大突破】近期有关中国光刻机层面的喜讯持续传出 ， 拥有华为和别的中国公司的共同奋斗 ， 也让技术发展增加了许多自信 ， 最终还是期待中国公司能齐心合力持续发力 ， 争取能尽早有更多的喜讯传来！


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