重大突破：第一台28nm国产光刻机交付在即
据媒体报道 ， 上海微电子装备(集团)股份有限公司披露 ， 将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机 。 虽然这与当今国际顶尖的7nm乃至是5nm光刻机还有数代的隔阂 ， 但是差距已经大大缩小 ， 毕竟在此之前国产光刻机还是90nm 。据悉 ， 上海微电子是国内技术最领先的光刻设备厂商 ， 从低端切入各个细分市场 ， 现已成为封测龙头企业的重要供应商 ， 国内市场占有率高达80% ， 全球市场占有率也有40% ， 同时旗下LED/MEMS/功率器件光刻机性能指标领先 ， LED光刻机市占率第一 。
上海微电子现有4大系列的光刻机产品 ， 其中600系列步进扫描投影光刻机面向IC前道制造 ， 采用四倍缩小倍率的投影物镜、工艺自适应调焦调平技术 ， 以及高速高精的自减振六自由度工件台掩模台技术 ， 可用于90nm、110nm、280nm工艺和200mm、300mm晶圆生产 。500系列面向IC后道先进封装 ， 300系列面向LED、MEMS、功率器件制造 ， 200系列面向TFT曝光 。
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