【光刻机】中国要造出5nm的光刻机 究竟需要多长时间？
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要制造一部光刻机 ， 最核心的部件就是镜头和激光光源 ， 而现在中国在这两项技术上还非常的落后 。 现在全球能够生产5nm及以上光刻机的厂家只有一个 ， 就是荷兰的ASML ， 而其中最根本的原因就是光源 。 现在 ， ASML是全球唯一一家掌握了极紫外光源技术的公司 ， 要想突破7nm的这个技术瓶颈 ， 就必须使用极紫外光源 。 最近 ， 中芯国际就向ASML成功订购了一台光刻机 ， 可以生产出7nm的芯片 ， 但是 ， 这台光刻机都不是EUV光源的 ， 使用的是浸润ArF技术 ， 也就是说7nm已经是这台光刻机的极限了 。
为什么中芯国际不去买EUV的光刻机呢？因为 ， 最早极紫外光源的研究是多个国家参与的 ， 包括了欧洲多国还有日本、韩国 。 而其中出力最多的就是美国 。 可以说 ， EUV光刻机的专利中 ， 美国拥有的数量不在少数 。 这也是为什么中国没能得到EUV光刻机的根本原因 。
而现在 ， 中科院光电所算是国内对光源研究最领先的科研所了 ， 但是 ， 中科院光电所的技术还是在365nm的水平 ， 也就是i-line阶段 ， 实验室能够做出的芯片最高水平也只是在22nm 。 还有很多技术瓶颈需要突破 ， 这些都没有什么捷径可走 。
当然 ， 除了光源 ， 下一个门槛就是镜头了在镜头上 ， 现在ASML的EUV光刻机使用的是德国蔡司的镜头 ， 其次能够排的上号的就是佳能和尼康了 。 而中国的镜头在高端市场上基本是没有影子 ， 中国想要在这个领域有所突破 ， 那也不是一时半会儿就能够见到成效的 。 当然 ， 鉴于中国的德国现在定没有什么矛盾 ， 所以镜头技术的使用应该不会是个大问题 ， 所以 ， 我们勉强认为镜头上就不需要花精力去研究了吧 。
20年前 ， EUV光刻机的地位就已经很明确了 ， 谁有了EUV光刻机的技术 ， 谁就有了芯片领域的未来 。 美国作为最早的研发者 ， 自然是加大投入跟进 。 而欧洲由于自己在半导体领域的逐渐衰弱 ， 也是把EUV光刻机作为了自己崛起的赌注 。 韩国和日本当然也不甘落后 ， 疯狂的跟进 。
美国由于对EUV技术的研发时间最长 ， 有一定底蕴 ， 总共投入了50多个高校和科技企业进入到这个领域 ， 当然 ， 最终在EUV光刻机领域 ， 美国的收益也是最大的 。 而欧洲对于EUV是最看重的 ， 35个国家共110多个高校和企业加入到研究的行列中 。 日本算是其中研究最不上心的 ， 也是EUV研究的国家中最终受益较小的 ， 连韩国都不如 。
【【光刻机】中国要造出5nm的光刻机 究竟需要多长时间？】
几十个国家 ， 上百所研究单位 ， 花费了20多年的时间 ， 才有了今天的EUV光刻机 ， 也有了5nm制程的芯片 。 说中国花费10年的时间做出5nm的光刻机 ， 应该不为过 。 ASML就曾经说过 ， 即使他们公开EUV光刻机的图纸 ， 现在也没有哪家公司能够山寨 ， 因为EUV的技术研发的难度非常之大 ， 不是说谁都能够山寨的 。
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