Ddaily三星平泽P2新工厂加快投产DRAM，或导入EUV工艺
【Ddaily三星平泽P2新工厂加快投产DRAM，或导入EUV工艺】三星平泽P2新工厂加快投产DRAM ， 或导入EUV工艺
据韩国媒体Ddaily报道 ， 三星正在加快先进工艺的过渡 ， 位于韩国京畿道平泽P2号工厂正在安装设备 ， 同时建设极紫外光刻（EUV）生产线 ， 计划生产先进的DRAM 。
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据行业消息称 ， 三星与设备商已签署了设备合同 ， 正在平泽新工厂中安装半导体设备 ， 将用于批量投产第二代（1ynm）和第三代（1znm）10nm级DRAM ， 预估初期月产能约3万片12吋晶圆 。
三星2020年第一季度资本支出7.3兆韩元（约60亿美元） ， 其中半导体支出为6.0兆韩元（约49亿美元） ， 同比增长近一倍 。 三星还在财报中指出 ， 会将重点放在不断增长的服务器DRAM需求上 ， 并通过扩大1Ynm技术迁移来增强成本竞争力 ， 同时推进1znm DRAM的技术发展 。 但随着电路的物理极限越来越近 ， 改善信号处理速度 ， 降低工作电压和待机电压 ， 提高新技术的DRAM产量 ， 成为三星推进EUV工艺量产的动力 。
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