#与非网#EUV增长率超过50%，2020年半导体光刻胶市场达到16亿美元
【#与非网#EUV增长率超过50%，2020年半导体光刻胶市场达到16亿美元】CINNOResearch产业资讯 ， 由于2019年半导体市场的低迷 ， 光刻胶市场也呈现了负增长；虽然2020年有新冠肺炎的影响 ， 但预计会再次增长 。
根据日媒News.Mynavi报道 ， 据美国电子材料市场调查公司TECHCET调查显示 ， 受到半导体市场低迷的影响 ， 2019光刻胶、辅助材料的全球市场出现了负增长；2020年虽然有新冠肺炎的影响 ， 但预测会转为正增长 。
据预测 ， 主要的G-Line/I-Line、DUV光刻胶的2020年的市场规模继2018年之后 ， 会再次超过16亿美元（约人民币112亿元） 。 另一方面 ， EUV光刻胶的市场规模在2020年超过1,000万美元（约人民币7,000万元） ， 到2023年年平均增长率预计达到50%以上 ， 但是从当前的EUV光蚀刻胶的整体市场来看 ， EUV光刻胶的占比不足1% 。
TECHCET的分析师EdKorczynski先生表示说 ， “长年以来 ， 极紫外光刻技术(EUVLithography)的导入一直被延误 ， 如今终于要被7nm工艺以下的IC生产采用了 。 继TSMC、SamsungElectronics之后 ， Intel计划在2023年把EUV运用到最尖端的逻辑半导体生产中 。 SKHynix也已经开始讨论把EUV运用到尖端DRAM的生产中” 。 未来 ， 随着EUV需求的增长 ， 而且有迹象表明EUV技术也将被用于量产 ， EUV特殊蚀刻胶供应商Inperia在2020年2月份收到了来自光刻胶厂家、使用EUV的半导体厂家等的总额3,100万美元（约人民币2.17亿元）的投资 。
据说 ， 荷兰的EUV曝光设备公司——ASML在2019年销售了203台DUVStepper（深紫外光曝光机） ， 26台EUVLithography设备（极紫外光曝光设备） 。 ASML保留2020年30台EUV曝光设备“NXE:3400系列”的产能 ， 2021年开始计划每年出货40-45台 。 
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按照曝光光源来区分 ， 半导体光刻胶（Photo-resist）市场规模 。 （单位：百万美元）（图片出自：TECHCET）
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