十年磨一剑拟登科创板，70岁中国半导体老者靠研发突围？( 二 ) 作者|李攸宁

尹志尧最早毕业于中国科学技术大学化学物理系，并于1980年取得美国加州大学洛杉矶分校物理化学博士学位，毕业后进入英特尔中心研究开发部工作，担任工程师。

1986年开始，尹志尧分别在泛林半导体、应用材料等全球领先设备公司担任重要职务，并成功开发了包括Rainbow介质刻蚀机在内的一系列等离子刻蚀机。他被誉为“硅谷最有成就的华人之一” 。

2004年，尹志尧发现随着芯片制造大规模向亚洲转移，上游半导体设备工业却仍留在美国，坚信国内半导体设备行业将迎来大规模发展。

同年8月，尹志尧决定回国创业，而当时他已经60岁了。并且，回国需要冲破美国政府的层层审查，所有的工艺配方、设计图纸都将被没收，他毅然决然。三十多人跟随他回国从零开始创办中微半导体。

抱着“用十五年时间追赶，二十年时间超越”的决胜信念，中微半导体于2018年自研7nm等离子刻蚀机通过台积电验证，成为国产首台进入台积电产线的半导体设备。自此进入全球半导体设备领域第一梯队。

持久战

虽然中微半导体的7纳米刻蚀技术已站到全球领先位置，但接下来等待它的并非坦途，而将是一场接一场的持续竞争。

在国内刻蚀设备市场，中微半导体已具备突出的市场竞争力。近期两家国内知名芯片企业的刻蚀设备采购份额中，中微半导体与泛林半导体、东京电子、应用材料同台竞技，供货量占比突破了15% 。

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